[发明专利]一种掩膜板组件、掩膜板及监控蒸发源镀膜均匀性的方法

权利要求书

1.一种掩模板组件，其特征在于：应用于高精细掩膜板，所述掩模板组件包括：

多个遮挡条，用于遮挡精细掩模条间缝隙，避免材料蒸镀到TFT基板；

多个镂空部，用于形成每一蒸发源对应的膜厚监控区域，对应不同蒸发源设置于所述遮挡条的不同位置上，且不位于所述遮挡条与支撑条重叠部分；所述镂空部的位置均分别映射于TFT基板的非电路区，且每一所述镂空部的面积至少大于光学薄膜量测设备的光斑。

2.根据权利要求1所述的掩模板组件，其特征在于：所述镂空部包括多组通孔，每组通孔分别对应不同蒸发源设置于所述遮挡条的不同位置上，每组通孔至少包括2个通孔。

3.根据权利要求2所述的掩模板组件，其特征在于：所述通孔为圆形、矩形或菱形。

4.根据权利要求1所述的掩模板组件，其特征在于：所述镂空部包括多个条形通孔，每个条形通孔对应不同蒸发源设置于所述遮挡条的不同位置上。

5.根据权利要求1所述的掩模板组件，其特征在于：所述镂空部包括至少一组通孔和至少一个条形通孔，分别对应不同蒸发源设置于所述遮挡条的不同位置上。

6.一种掩模板，其特征在于：所述掩模板包括精细掩模条、支撑条、掩膜框以及如权利要求1-5任一项所述的掩模板组件。

7.一种监控蒸发源镀膜均匀性的方法，需提供如权利要求6所述的掩模板，所述方法包括：

在蒸镀机生产过程中，TFT基板依次经过各蒸发源镀膜，则不同材料气体经过对应设置的镂空部镀膜到TFT基板的非电路区，形成每一蒸发源对应的膜厚监控区域，最后利用光学薄膜量测设备依次量取各个膜厚监控区域的薄膜数据，即可实现蒸发源镀膜的均匀性的在线量测。