[发明专利]一种掩膜板组件、掩膜板及监控蒸发源镀膜均匀性的方法

说明书

本发明公开了一种掩膜板组件、掩膜板及监控蒸发源镀膜均匀性的方法，涉及TFT基板蒸镀技术领域。本发明的掩模板组件应用于高精细掩膜板，包括：多个遮挡条，用于遮挡所述精细掩模条间缝隙，避免材料蒸镀到TFT基板；多个镂空部，用于形成每一蒸发源对应的膜厚监控区域，对应不同蒸发源设置于所述遮挡条的不同位置上，且不位于所述遮挡条与支撑条重叠部分；所述镂空部的位置均分别映射于TFT基板的非电路区，且每一所述镂空部的面积至少大于光学薄膜量测设备的光斑。本发明实施例通过一种新型的掩膜板组件和掩膜板，实现了在生产过程中对各个蒸发源镀膜均匀性进行在线测量及监控。

技术领域

本发明涉及TFT基板蒸镀技术领域，特别涉及一种掩膜板组件、掩膜板及监控蒸发源镀膜均匀性的方法。

背景技术

OLED，即有机发光二极管(organic light-emitting diode)是继LCD后新一代的显示器，主要采用蒸镀制程，生产时TFT基板依次经过各蒸发源，材料汽化后通过掩膜板开孔沉积到TFT基板电路上，实现OLED器件发光。

掩膜板包括一般掩膜板(open mask)及高精细金属掩模板(FMM，Fine metalMask)，其中FMM主要用于红绿蓝发光层(如图1所示)，对薄膜厚度及均匀性要求较高。但蒸发源特别是线蒸发源喷嘴数量较多，如果部分喷嘴堵塞或其他原因均可能导致基板上薄膜膜厚的均匀性不佳，由于OLED器件的微腔效应影响，器件光电显示就会出现色偏色不纯等问题影响产品良率。

量产时如需进行膜厚均匀测试，则需于生产过程中穿插dummy基板到目标蒸发源成膜，然后再进行膜厚量测，如此会造成浪费生产物料成本较高，并且难以在蒸镀机生产过程中实时监控蒸发源镀膜的均匀性。

发明内容

本发明要解决的技术问题，在于提供一种掩膜板组件、掩膜板及监控蒸发源镀膜均匀性的方法，通过形成每一蒸发源对应的膜厚监控区域，实现在生产过程中各个蒸发源镀膜均匀性的在线测量及监控。

第一方面，本发明提供了一种掩膜板组件，应用于高精细掩膜板，所述掩模板组件包括：

多个遮挡条，用于遮挡精细掩模条间缝隙，避免材料蒸镀到TFT基板；

多个镂空部，用于形成每一蒸发源对应的膜厚监控区域，对应不同蒸发源设置于所述遮挡条的不同位置上，且不位于所述遮挡条与支撑条重叠部分；所述镂空部的位置均分别映射于TFT基板的非电路区，且每一所述镂空部的面积至少大于光学薄膜量测设备的光斑。

进一步地，所述镂空部包括多组通孔，每组通孔分别对应不同蒸发源设置于所述遮挡条的不同位置上，每组通孔至少包括2个通孔。

进一步地，所述通孔为圆形、矩形或菱形。

进一步地，所述镂空部包括多个条形通孔，每个条形通孔对应不同蒸发源设置于所述遮挡条的不同位置上。

进一步地，所述镂空部包括至少一组通孔和至少一个条形通孔，分别对应不同蒸发源设置于所述遮挡条的不同位置上。

第二方面，本发明提供了一种掩膜板，包括精细掩模条、支撑条、掩膜框以及如第一方面所述的掩模板组件。

第三方面，本发明提供了一种监控蒸发源镀膜均匀性的方法，包括：

在蒸镀机生产过程中，TFT基板依次经过各蒸发源镀膜，则不同材料气体经过对应设置的镂空部镀膜到TFT基板的非电路区，形成每一蒸发源对应的膜厚监控区域，最后利用光学薄膜量测设备依次量取各个膜厚监控区域的薄膜数据，即可实现蒸发源镀膜的均匀性的在线量测。

本发明具有如下优点：