[发明专利]一种半导体生产用等离子刻蚀机

权利要求书

1.一种半导体生产用等离子刻蚀机，包括机箱（1），其特征在于：所述机箱（1）的内壁开设有加工腔（2），且机箱（1）的表面一侧开设有送气管（6），所述机箱（1）的表面中部固定安装有提升装置（3），且提升装置（3）的顶部固定安装有驱动电机（5），所述驱动电机（5）的输出轴固定安装有位于加工腔（2）内腔的驱动杆（4），且驱动杆（4）的底端固定安装有固定块（17），所述固定块（17）上设置有安装架（16），所述安装架（16）中活动安装有活动辊（19），且安装架（16）的内壁底部活动套接有与活动辊（19）辊面贴合的上限块（20），所述上限块（20）的底部活动安装有晶圆（21），且安装架（16）的底部活动安装有用于实现对晶圆（21）固定的下限块（22），所述安装架（16）的侧壁活动安装有锁止杆（7），且锁止杆（7）的侧壁底部活动安装有风叶（13），所述风叶（13）的外侧固定安装有用于实现对下限块（22）进行固定的传动筒轮（14），所述机箱（1）的内壁底部并位于加工腔（2）中固定安装有底座（9），且底座（9）的中部固定安装有位于机箱（1）外侧的抽吸管（10），所述底座（9）的表面设置有端面形状呈楔形凸起的振动凸块（8）。

2.根据权利要求1所述的一种半导体生产用等离子刻蚀机，其特征在于：所述风叶（13）的数量设为三个，且三个风叶（13）的形状均呈扇形。

3.根据权利要求1所述的一种半导体生产用等离子刻蚀机，其特征在于：所述风叶（13）的侧壁固定安装有位于晶圆（21）下方的清洁杆（11），且清洁杆（11）的侧壁固定安装有与晶圆（21）滑动连接的清洁刷体（12），所述清洁杆（11）与风叶（13）处于同一轴线，所述清洁杆（11）设为至少三组，三组所述清洁杆（11）之间等距且相邻两组间的清洁杆（11）之间呈九十度布置。

4.根据权利要求1所述的一种半导体生产用等离子刻蚀机，其特征在于：所述活动辊（19）的数量设有六个，且六个活动辊（19）均为滚筒。

5.根据权利要求1所述的一种半导体生产用等离子刻蚀机，其特征在于：所述固定块（17）与安装架（16）之间活动套接，所述安装架（16）的内壁固定安装有位于活动辊（19）端头的锁止螺母（15），且固定块（17）表面活动安装有用于与锁止螺母（15）适配实现固定块（17）提升和下落的锁止螺栓（18），所述锁止杆（7）的顶端与固定块（17）活动安装。

6.根据权利要求5所述的一种半导体生产用等离子刻蚀机，其特征在于：所述锁止杆（7）设为矩形杆与圆柱杆的组合体，且锁止杆（7）在固定块（17）的表面上间隙安装。