[发明专利]一种镀膜机镀膜的监测预警方法及系统

权利要求书

1.一种镀膜机镀膜的监测预警方法，其特征在于，所述方法应用于镀膜机镀膜监测预警系统，所述系统与数据采集装置通信连接，所述方法包括：

根据所述数据采集装置，获取目标基片的基片表面信息、基片位置信息和基片角度信息；

将所述基片表面信息、基片位置信息和基片角度信息输入镀膜监测模型中，根据所述镀膜监测模型，生成镀膜监测结果，其中，所述镀膜监测结果为基材镀膜指标；

获取目标镀膜机中用于进行镀膜的镀膜材料组分；

按照所述镀膜材料组分进行镀膜均匀性分析，获取成膜均匀指标；

通过对所述目标镀膜机的基片放置结构进行分析，获取镀膜稳定指标；

根据所述基材镀膜指标、所述成膜均匀指标和所述镀膜稳定指标进行匹配度分析，输出匹配度分析结果；

将所述基材镀膜指标、所述成膜均匀指标和所述镀膜稳定指标输入匹配度分析模型中；

根据所述匹配度分析模型进行分析，获取匹配度数据集，其中，所述匹配度数据集包括所述基材镀膜指标与所述成膜均匀指标的基材-成膜匹配度、所述成膜均匀指标和所述镀膜稳定指标的成膜-镀膜匹配度、所述基材镀膜指标和所述镀膜稳定指标的基材-镀膜匹配度；

根据所述基材-成膜匹配度、所述成膜-镀膜匹配度和所述基材-镀膜匹配度，输出所述匹配度分析结果；

根据所述匹配度分析结果，生成镀膜预警信息；

当处于匹配成功的结果时，对所述目标基片进行镀膜偏差监测调整；

通过对所述目标基片进行镀膜偏差监测，获取镀膜偏差度；

根据所述镀膜偏差度，获取偏差控制参数；

将所述偏差控制参数发送至所述目标镀膜机的控制系统终端，根据所述目标镀膜机的控制系统终端，下发偏差调整指令；

根据所述偏差调整指令对所述目标基片的镀膜操作进行偏差调整。

2.如权利要求1所述的方法，其特征在于，所述根据所述匹配度分析结果，生成镀膜预警信息，方法还包括：

获取预设匹配度数据集，包括第一预设匹配度、第二预设匹配度和第三预设匹配度；

根据所述基材-成膜匹配度、所述成膜-镀膜匹配度和所述基材-镀膜匹配度分别与所述第一预设匹配度、所述第二预设匹配度和所述第三预设匹配度进行判断，获取判断结果，包括匹配不成功的结果和匹配成功的结果；

若所述判断结果为匹配不成功的结果，生成所述镀膜预警信息。

3.如权利要求2所述的方法，其特征在于，所述方法还包括：

若所述基材-成膜匹配度大于等于所述第一预设匹配度、所述成膜-镀膜匹配度大于等于所述第二预设匹配度、且所述基材-镀膜匹配度大于等于所述第三预设匹配度，获取匹配成功的结果。

4.如权利要求1所述的方法，其特征在于，所述方法还包括：

获取所述目标镀膜机的镀膜环境信息；

根据所述镀膜环境信息进行影响因子识别，输出多个影响因子；

以所述多个影响因子，搭建环境自动监测模型；

根据所述环境自动监测模型对所述目标基片的镀膜过程进行环境监测，生成环境预警信息。

5.如权利要求1所述的方法，其特征在于，方法还包括：

若所述镀膜偏差度处于预设镀膜偏差度阈值中，获取成品检测指令；

根据所述成品检测指令，控制所述数据采集装置对镀膜成品进行成膜贴合度检测和表面气泡检测，以成膜贴合度检测结果和表面气泡检测结果进行计算，输出镀膜成品质量。

6.一种镀膜机镀膜的监测预警系统，其特征在于，所述系统包括：

信息获取单元，所述信息获取单元用于根据数据采集装置，获取目标基片的基片表面信息、基片位置信息和基片角度信息；

信息输入单元，所述信息输入单元用于将所述基片表面信息、基片位置信息和基片角度信息输入镀膜监测模型中，根据所述镀膜监测模型，生成镀膜监测结果，其中，所述镀膜监测结果为基材镀膜指标；

材料组分获取单元，所述材料组分获取单元用于获取目标镀膜机中用于进行镀膜的镀膜材料组分；

均匀性分析单元，所述均匀性分析单元用于按照所述镀膜材料组分进行镀膜均匀性分析，获取成膜均匀指标；

结构分析单元，所述结构分析单元用于通过对所述目标镀膜机的基片放置结构进行分析，获取镀膜稳定指标；

匹配度分析单元，所述匹配度分析单元用于根据所述基材镀膜指标、所述成膜均匀指标和所述镀膜稳定指标进行匹配度分析，输出匹配度分析结果；

指标输入单元，所述指标输入单元用于将所述基材镀膜指标、所述成膜均匀指标和所述镀膜稳定指标输入匹配度分析模型中；

匹配度数据集获取单元，所述匹配度数据集获取单元用于根据所述匹配度分析模型进行分析，获取匹配度数据集，其中，所述匹配度数据集包括所述基材镀膜指标与所述成膜均匀指标的基材-成膜匹配度、所述成膜均匀指标和所述镀膜稳定指标的成膜-镀膜匹配度、所述基材镀膜指标和所述镀膜稳定指标的基材-镀膜匹配度；

匹配度分析结果输出单元，所述匹配度分析结果输出单元用于根据所述基材-成膜匹配度、所述成膜-镀膜匹配度和所述基材-镀膜匹配度，输出所述匹配度分析结果；

预警信息生成单元，所述预警信息生成单元用于根据所述匹配度分析结果，生成镀膜预警信息；

镀膜偏差监测调整单元，所述镀膜偏差监测调整单元用于当处于匹配成功的结果时，对所述目标基片进行镀膜偏差监测调整；

镀膜偏差监测单元，所述镀膜偏差监测单元用于通过对所述目标基片进行镀膜偏差监测，获取镀膜偏差度；

偏差控制参数获取单元，所述偏差控制参数获取单元用于根据所述镀膜偏差度，获取偏差控制参数；

指令下发单元，所述指令下发单元用于将所述偏差控制参数发送至所述目标镀膜机的控制系统终端，根据所述目标镀膜机的控制系统终端，下发偏差调整指令；

偏差调整单元，所述偏差调整单元用于根据所述偏差调整指令对所述目标基片的镀膜操作进行偏差调整。