[发明专利]一种镀膜机镀膜的监测预警方法及系统

说明书

本发明提供了一种镀膜机镀膜的监测预警方法及系统，涉及数字处理技术领域，方法包括：根据数据采集装置，获取目标基片的基片表面信息、基片位置信息和基片角度信息，输入镀膜监测模型中，生成镀膜监测结果；获取目标镀膜机中用于进行镀膜的镀膜材料组分；按照镀膜材料组分进行镀膜均匀性分析，获取成膜均匀指标；通过对目标镀膜机的基片放置结构进行分析，获取镀膜稳定指标；根据基材镀膜指标、成膜均匀指标和镀膜稳定指标进行匹配度分析，输出匹配度分析结果，生成镀膜预警信息。解决镀膜控制参数的调整精度低的技术问题，达到多维度进行匹配度分析，提高镀膜控制参数的调整精度，同步进行监测预警，实现镀膜加工的智能化监测的技术效果。

技术领域

本发明涉及数字处理技术领域，具体涉及一种镀膜机镀膜的监测预警方法及系统。

背景技术

镀膜机镀膜就是采用镀膜机，通过镀膜技术，将薄膜镀到基片上。薄膜、基片、基片和薄膜的位置会直接影响到镀膜的质量和性能，如镀铝层的连续性优于银、铜镀膜层，镀层厚度达到0.9nm即可导电，镀层达到30nm时，性能就与固态铝材相同，银镀层小于5nm时不能导电，铜镀层对基材附着力较差且容易被氧化，在镀膜过程中，需要保证附着力的同时，保证成品的性能，以满足成品的使用需求。

常见的，在镀膜机镀膜过程中，通过高清晰度的图像采集设备进行影响采集分析，但监测数据无法直接反馈应用于镀膜操作的偏差调整，在镀膜机镀膜过程，无法保证镀膜全阶段控制参数的有效性，镀膜成品偏差度较大。

现有技术中存在镀膜控制参数的调整精度低的技术问题。

发明内容

本申请通过提供了一种镀膜机镀膜的监测预警方法及系统，解决了镀膜控制参数的调整精度低的技术问题，达到了多维度进行匹配度分析，提高镀膜控制参数的调整精度，同步进行监测预警，实现镀膜加工的智能化监测的技术效果。

鉴于上述问题，本申请提供了一种镀膜机镀膜的监测预警方法及系统。

本申请的第一个方面，提供了一种镀膜机镀膜的监测预警方法，其中，所述方法应用于镀膜机镀膜监测预警系统，所述系统与数据采集装置通信连接，所述方法包括：根据所述数据采集装置，获取目标基片的基片表面信息、基片位置信息和基片角度信息；将所述基片表面信息、基片位置信息和基片角度信息输入镀膜监测模型中，根据所述镀膜监测模型，生成镀膜监测结果，其中，所述镀膜监测结果为基材镀膜指标；获取目标镀膜机中用于进行镀膜的镀膜材料组分；按照所述镀膜材料组分进行镀膜均匀性分析，获取成膜均匀指标；通过对所述目标镀膜机的基片放置结构进行分析，获取镀膜稳定指标；根据所述基材镀膜指标、所述成膜均匀指标和所述镀膜稳定指标进行匹配度分析，输出匹配度分析结果；根据所述匹配度分析结果，生成镀膜预警信息。

本申请的第二个方面，提供了一种镀膜机镀膜的监测预警系统，其中，所述系统包括：信息获取单元，所述信息获取单元用于根据数据采集装置，获取目标基片的基片表面信息、基片位置信息和基片角度信息；信息输入单元，所述信息输入单元用于将所述基片表面信息、基片位置信息和基片角度信息输入镀膜监测模型中，根据所述镀膜监测模型，生成镀膜监测结果，其中，所述镀膜监测结果为基材镀膜指标；材料组分获取单元，所述材料组分获取单元用于获取目标镀膜机中用于进行镀膜的镀膜材料组分；均匀性分析单元，所述均匀性分析单元用于按照所述镀膜材料组分进行镀膜均匀性分析，获取成膜均匀指标；结构分析单元，所述结构分析单元用于通过对所述目标镀膜机的基片放置结构进行分析，获取镀膜稳定指标；匹配度分析单元，所述匹配度分析单元用于根据所述基材镀膜指标、所述成膜均匀指标和所述镀膜稳定指标进行匹配度分析，输出匹配度分析结果；预警信息生成单元，所述预警信息生成单元用于根据所述匹配度分析结果，生成镀膜预警信息。

本申请中提供的一个或多个技术方案，至少具有如下技术效果或优点：