[发明专利]一种涡流自热式硅材料提纯连续出料真空炉装置

说明书

本发明公开的一种涡流自热式硅材料提纯连续出料真空炉装置，包括：一机架；其还包括：一滑动安装在所述机架上的反应器；一安装在所述机架上的真空收料装置；生产时，将所述反应器移动至所述真空收料装置并将所述反应器的兼做加料口的出料口与所述真空收料装置的收料口对接，使得反应器内反应后的硅材料被收纳于真空收料装置内。本发明将反应器与真空收料装置中的真空收料腔体分别设置机架的左右两侧，便于真空收料装置中的真空收料腔体的底部直接设置产品出口，使真空状态下连续出料更顺畅；反应器中的硅材料到达工艺温度时，升华的一氧化硅产品直接到达真空收料装置中的真空收料腔体内，取消通道，避免了一氧化硅产品在通道内沉积、变质，堵塞通道，使生产无法进行的问题。

技术领域

本发明真空炉技术领域，特别涉及一种以电磁感应加热，高效、节能、温控稳定、安全、环保的涡流自热式硅材料提纯连续出料真空炉装置。

背景技术

硅材料涉及电池、半导体、光导纤维通信等高科技产品制造行业，在产品生产过程中所需要的重要组成材料之一。硅材料通过在真空反应器内高温加热，使硅材料中的二氧化硅和金属硅完成氧化还原反应，生成一氧化硅，以升华的方式进入水冷真空收集腔内被收集。

目前市场使用硅材料提纯装置大多数采用电阻式真空炉，其升温和降温速度慢，产品产量低，占地面积大，不能连续出料。也有少数的电磁感应加热式真空炉，虽然解决了电阻式真空炉升温和降温速度慢的问题，但仍不能连续出料。特别在处理质量密度较小的硅材料时体积超大的真空反应器只能处理少量的质量密度较小的硅材料，特别是升华的一氧化硅以超细粉收集时，其体积远远超过硅材料原料体积，水冷真空收集腔很快被填满，后面的一氧化硅产品来不及冷却，变成混合硅直接影响硅材料提纯产品的质量。所以以上两种炉型限制了硅材料提纯产品产量和质量，同时不能满足高科技产品制造业所需的高品质硅材料提纯产品的足量供应。

发明内容

本发明所要解决的技术问题在于针对目前市场使用的不能连续出料的电磁感应加热式真空炉和电阻式真空炉所存在的上述不足而提供一种涡流自热式硅材料提纯连续出料真空炉装置。

本发明所要解决的技术问题可以通过以下技术方案来实现：

一种涡流自热式硅材料提纯连续出料真空炉装置，包括：一机架；其特征在于，还包括：

一滑动安装在所述机架上的反应器；

一安装在所述机架上的真空收料装置；

生产时，将所述反应器移动至所述真空收料装置并将所述反应器的兼做加料口的出料口与所述真空收料装置的收料口对接，使得反应器内反应后的硅材料被收纳于真空收料装置内。

在本发明的一个优选实施例，在反应时，所述反应器和所述真空收料装置采用卧式方式分设在所述机架的两侧。这样便于真空收料装置的真空收集腔体的底部直接设置产品出口，使真空状态下连续出料更顺畅；反应器中的硅材料到达工艺温度时，升华的一氧化硅产品直接到达真空收料腔体内，取消通道，避免了一氧化硅产品在通道内沉积、变质，堵塞通道，使生产无法进行的问题。

在本发明的一个优选实施例中，在所述机架上安装有滑轨，所述滑轨的一端延伸至所述真空收料装置处，所述反应器滑动安装在所述滑轨上。

在本发明的一个优选实施例中，所述反应器采用一支架和一液压升降杆滑动安装在所述滑轨上，其中支架的下端固定在所述滑轨上，所述支架的上端固定于所述反应器的底部，所述液压升降杆的固定部分固定在所述滑轨上，所述液压升降杆的活动部分与所述反应器的出料口位置连接；所述液压升降杆升降时，可以带动反应器翻转，可以将反应器的兼做加料口的出料口顶起一定角度，可以提高碳化硅石墨坩埚的装料量；同时便于与所述真空收料装置的收料口对接。

在本发明的一个优选实施例中，所述反应器为涡流自热式反应器，涡流自热式反应器的升温和降温速度快，缩短生产时间，提高产量。