[发明专利]一种用于制备矿物接触面透射电镜样品的方法

权利要求书

1.一种用于制备矿物接触面透射电镜样品的方法，其特征在于包括如下步骤：

步骤S1、圈出需要切割透射电镜样品的区域，并记录目标区域的坐标；

步骤S2、在目标区域上方沉积保护层；

步骤S3、沿着垂直方向对沉积有保护层的目标区域两侧进行离子束切割；

步骤S4、对沉积有保护层的目标区域进行离子束减薄；

步骤S5、对沉积有保护层的目标区域两侧斜向上进行离子束切割，使目标区域完全露出；

步骤S6、切割减薄后的目标区域并置于金属载物台上，制得样品。

2.根据权利要求1所述的一种用于制备矿物接触面透射电镜样品的方法，其特征在于：所述所述步骤S1中包括采集样品，磨制光薄片，将得到的光薄片镀碳，并置于扫描电镜下观察；在扫描电镜下圈出需要切割透射电镜样品的目标区域，并记录坐标。

3.根据权利要求2所述的一种用于制备矿物接触面透射电镜样品的方法，其特征在于：所述步骤S2中包括将圈出目标区域的光薄片置于具有聚焦离子束系统的扫描电镜上，并对坐标进行转换，找到圈出的目标区域；用纳米操作手钨针尖，用气体注入方式在目标区域表面沉积一条宽度为120nm的铂保护层。

4.根据权利要求3所述的一种用于制备矿物接触面透射电镜样品的方法，其特征在于：所述步骤S3中沿着垂直方向对沉积有保护层的目标区域两侧进行离子束切割，在目标区域两侧分别得到两个深度为10um的凹坑。

5.根据权利要求4所述的一种用于制备矿物接触面透射电镜样品的方法，其特征在于：所述步骤S4中对沉积有保护层的目标区域进行离子束减薄，得到厚度为200um，深度为10um，宽度为10um的目标区域。

6.根据权利要求5所述的一种用于制备矿物接触面透射电镜样品的方法，其特征在于：所述步骤S5中对沉积有保护层的目标区域两侧斜向上进行离子束切割，使目标区域完全露出，方便后续分离出目标区域。

7.根据权利要求6所述的一种用于制备矿物接触面透射电镜样品的方法，其特征在于：所述步骤S6中将步骤S5得到的目标区域使用离子束切割分离之后置于金属载物台上，并使用Pt层粘牢；对铀矿物和绿泥石分别使用不同的束流强度进行减薄，反复操作之后，最终得到铀矿物和绿泥石厚度均为100um，制得符合要求的透射电镜样品。