[发明专利]基板处理装置及方法

权利要求书

1.一种基板处理装置，包括：

处理槽；

传送部件，设置在所述处理槽内，并且沿第一方向移动基板；

第一喷嘴，设置在所述传送部件上方，沿与所述第一方向不同的第二方向延伸，并向所述基板供应液态化学品；以及

排气部件，设置在所述传送部件上方，沿与所述第一方向不同的第三方向延伸，并且布置在相对于所述第一喷嘴的前方或后方，

其中，所述排气部件排出由从所述第一喷嘴供应的液态化学品与所述基板碰撞而产生的雾气。

2.根据权利要求1所述的基板处理装置，其中，

所述排气部件包括布置在相对于所述第一喷嘴的后方的第一排气管和布置在相对于所述第一喷嘴的前方的第二排气管。

3.根据权利要求2所述的基板处理装置，还包括：

第一侧盖，布置在相对于所述第一喷嘴的后方；以及

第二侧盖，布置在相对于所述第一喷嘴的前方，

其中，所述第一侧盖和所述第二侧盖通过限制所述雾气的扩散范围来提高所述第一排气管和所述第二排气管的排气效率。

4.根据权利要求3所述的基板处理装置，其中，

所述第一侧盖的一端与所述传送部件隔开预定距离，以及所述基板穿过所述第一侧盖的所述一端与所述传送部件之间而移动。

5.根据权利要求4所述的基板处理装置，其中，

所述第一侧盖包括主体、从所述主体延伸的下部区域、以及从所述主体延伸的上部区域，其中所述下部区域或所述上部区域向前方倾斜。

6.根据权利要求1所述的基板处理装置，其中，

在所述处理槽的上部设置有风扇过滤单元，所述风扇过滤单元使空气在所述处理槽内向下流动。

7.根据权利要求6所述的基板处理装置，其中，

所述风扇过滤单元的风量等于或小于所述排气部件的排气量。

8.根据权利要求1所述的基板处理装置，其中，

所述传送部件包括彼此平行布置的多个传送轴，所述传送轴上设置有多个辊，

所述基板处理装置还包括底盖，所述底盖设置在所述第一喷嘴的下方并包括多个凹槽，所述多个辊位于所述多个凹槽中，以及

所述排气部件排出由从所述第一喷嘴供应的液态化学品与所述底盖碰撞而产生的雾气。

9.根据权利要求1所述的基板处理装置，还包括：

第二喷嘴，设置在所述传送部件上方，并布置在相对于所述第一喷嘴的前方，

所述排气部件还包括：

第一排气管，布置在相对于所述第一喷嘴的后方；

第二排气管，布置在所述第一喷嘴和所述第二喷嘴之间；以及

第二排气管，布置在相对于所述第二喷嘴的前方。

10.根据权利要求1所述的基板处理装置，其中，

在所述处理槽的后表面上不设置有排气口。

11.一种基板处理装置，包括：

处理槽；

传送部件，设置在所述处理槽内，包括使基板沿一个方向移动的多个传送轴，所述传送轴上设置有多个辊；

第一喷嘴，设置在所述传送部件上方，并用于向所述基板供应液态化学品；

第一排气管，设置在所述传送部件上方，并且布置在相对于所述第一喷嘴的后方；

第二排气管，设置在所述传送部件上方，并且布置在相对于所述第一喷嘴的前方；

第一侧盖，布置在相对于所述第一排气管的后方；

第二侧盖，布置在相对于所述第二排气管的前方；以及

底盖，布置在所述第一喷嘴的下方，并包括多个凹槽，所述多个辊位于所述多个凹槽中。