[发明专利]基板处理装置及方法

说明书

提供了一种用于使处理槽内的雾气扩散最小化的基板处理装置。该基板处理装置包括：处理槽；传送部件，设置在处理槽内，并且沿第一方向移动基板；第一喷嘴，设置在传送部件上方，沿与第一方向不同的第二方向延伸，并向基板供应液态化学品；以及排气部件，设置在传送部件上方，沿与第一方向不同的第三方向延伸，并且布置在相对于第一喷嘴的前方或后方，其中，排气部件排出由从第一喷嘴供应的液态化学品与基板碰撞而产生的雾气。

技术领域

本发明涉及一种基板处理装置及方法。

背景技术

当制造显示装置时，可以执行各种工艺，诸如光刻、蚀刻、灰化、离子注入、薄膜沉积、清洗等。这里，光刻工艺包括涂布、曝光和显影工艺。在基板上形成感光膜(即，涂布工艺)，在形成有感光膜的基板上曝光出电路图案(即，曝光工艺)，并选择性地对基板的经曝光处理的区域进行显影(即，显影工艺)。

发明内容

解决的技术问题

另外，在形成感光膜之前，使用清洗液清洗基板。例如，当玻璃基板进入处理槽内时，将清洗液喷射到玻璃基板上。然而，喷射的清洗液与基板碰撞而产生雾气，该雾气可能在处理槽内扩散。如此扩散的雾气可能在处理槽的侧壁或上面凝聚，且凝聚的雾气重新落到玻璃基板上，从而在玻璃基板上产生斑点。

本发明要解决的技术问题在于，提供一种用于使处理槽内的雾气扩散最小化的基板处理装置。

本发明要解决的另一技术问题在于，提供一种用于使处理槽内的雾气扩散最小化的基板处理方法。

本发明的技术问题不限于上述技术问题，本领域的技术人员通过下面的描述可以清楚地理解未提及的其他课题。

解决方法

为解决上述技术问题，本发明的基板处理装置的一方面包括：处理槽；传送部件，设置在所述处理槽内，并且沿第一方向移动基板；第一喷嘴，设置在所述传送部件上方，沿与所述第一方向不同的第二方向延伸，并向所述基板供应液态化学品；以及排气部件，设置在所述传送部件上方，沿与所述第一方向不同的第三方向延伸，并且布置在相对于所述第一喷嘴的前方或后方，其中，所述排气部件排出由从所述第一喷嘴供应的液态化学品与所述基板碰撞而产生的雾气。

为解决上述技术问题，本发明的基板处理装置的另一方面包括：处理槽；传送部件，设置在所述处理槽内，包括使基板沿一个方向移动的多个传送轴，所述传送轴上设置有多个辊；第一喷嘴，设置在所述传送部件上方，并用于向所述基板供应液态化学品；第一排气管，设置在所述传送部件上方，并且布置在相对于所述第一喷嘴的后方；第二排气管，设置在所述传送部件上方，并且布置在相对于所述第一喷嘴的前方；第一侧盖，布置在相对于所述第一排气管的后方；第二侧盖，布置在相对于所述第二排气管的前方；以及底盖，布置在所述第一喷嘴的下方，并包括多个凹槽，所述多个辊位于所述多个凹槽中。

为解决上述另一技术问题，本发明的基板处理方法的一方面包括：提供基板处理装置，所述基板处理装置包括：处理槽；传送部件，设置在所述处理槽内；喷嘴，设置在所述传送部件上方；第一排气管，设置在所述传送部件上方，且形成在相对于所述喷嘴的后方；第二排气管，形成在相对于所述喷嘴的前方；第一侧盖，布置在相对于所述第一排气管的后方；以及第二侧盖，布置在相对于所述第二排气管的前方；在沿所述传送部件在一个方向上移动所述基板的同时，通过所述喷嘴向所述基板供应液态化学品；以及通过所述第一排气管和所述第二排气管排出由从所述喷嘴供应的液态化学品与所述基板碰撞而产生的雾气。

其他实施例的具体事项包含在详细的说明及附图中。

附图说明

图1是用于说明根据本发明第一实施例的基板处理装置的示意图。

图2是用于说明图1所示的喷嘴、排气部件和侧盖的立体图。

图3是用于说明图1所示的底盖的平面图。