[发明专利]一种磁子自旋力矩器件、存储结构及电子设备在审
申请号: | 202211379316.7 | 申请日: | 2022-11-04 |
公开(公告)号: | CN115802871A | 公开(公告)日: | 2023-03-14 |
发明(设计)人: | 南天翔;柴亚红 | 申请(专利权)人: | 清华大学 |
主分类号: | H10N52/85 | 分类号: | H10N52/85;H10B61/00 |
代理公司: | 北京安信方达知识产权代理有限公司 11262 | 代理人: | 栗若木;龙洪 |
地址: | 10008*** | 国省代码: | 北京;11 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 一种 自旋 力矩 器件 存储 结构 电子设备 | ||
1.一种磁子自旋力矩器件,其特征在于,包括:
衬底,设置在所述衬底上的自旋源层,设置在所述自旋源层远离所述衬底一侧的磁子传输层,设置在所述磁子传输层远离所述衬底一侧的磁性结构层,其中,所述磁子传输层包括多铁反铁磁材料。
2.根据权利要求1所述的磁子自旋力矩器件,其特征在于,所述多铁反铁磁材料包括以下至少之一:铁酸铋、铁酸铋镧、锰酸铽、锰酸钙、锰酸镥、锰酸锶钡。
3.根据权利要求1所述的磁子自旋力矩器件,其特征在于,沿垂直于所述衬底的方向,所述磁子传输层的厚度为2至1000纳米。
4.根据权利要求1所述的磁子自旋力矩器件,其特征在于,所述自旋源层的材料包括以下至少之一:铂、钽、钨、锡、铂锰合金、二碲化钨、铋锑合金、铱锰合金、二氧化铱、钌酸锶、铱酸锶。
5.根据权利要求1所述的磁子自旋力矩器件,其特征在于,所述磁性结构层包括一层或多层垂直磁各向异性薄膜。
6.根据权利要求1所述的磁子自旋力矩器件,其特征在于,所述磁性结构层的材料包括以下至少之一:钴、钴铁硼、碲化铁、镧锶锰氧化物、铂钴单层和铂钴多层。
7.根据权利要求1至6任一所述的磁子自旋力矩器件,其特征在于,所述磁子自旋力矩器件还包括:设置在所述磁性结构层远离所述衬底一侧的电极,在平行于所述衬底的平面上,所述电极的正投影与所述磁子传输层的正投影存在交叠。
8.一种存储结构,其特征在于,包括:衬底,设置在所述衬底上的自旋源层,设置在所述自旋源层远离所述衬底一侧的磁子传输层,设置在所述磁子传输层远离所述衬底一侧的至少一个磁记录单元,设置在所述磁记录单元远离所述衬底一侧的电极,在平行于所述衬底的平面上,所述电极的正投影与所述磁子传输层的正投影存在交叠,其中,所述磁子传输层包括多铁反铁磁材料。
9.根据权利要求8所述的存储结构,其特征在于,所述电极与所述磁记录单元一一对应。
10.根据权利要求8所述的存储结构,其特征在于,所述多铁反铁磁材料包括以下至少之一:铁酸铋、铁酸铋镧、锰酸铽、锰酸钙、锰酸镥、锰酸锶钡。
11.根据权利要求8所述的存储结构,其特征在于,沿垂直于所述衬底的方向,所述磁子传输层的厚度为2至1000纳米。
12.根据权利要求8所述的存储结构,其特征在于,所述自旋源层的材料包括以下至少之一:铂、钽、钨、锡、铂锰合金、二碲化钨、铋锑合金、铱锰合金、二氧化铱、钌酸锶、铱酸锶。
13.根据权利要求8至12任一所述的存储结构,其特征在于,所述磁记录单元包括:依次设置在所述磁子传输层远离所述衬底一侧的自由层、势垒层、固定层,且所述自由层、固定层垂直磁各向异性。
14.一种电子设备,其特征在于,包括如权利要求8至13任一所述的存储结构。
15.根据权利要求14所述的电子设备,其特征在于,所述电子设备还包括:与所述磁记录单元对应的第一开关单元,第二开关单元,所述第一开关单元分别与第一位线端、第二位线端和对应的磁记录单元的所述电极连接;所述第二开关单元与第三位线端、第一字线端和所述自旋源层的一端连接;其中,
所述第一开关单元被配置为,在所述第一位线端的控制下,向所述电极提供所述第二位线端的信号;
所述第二开关单元被配置为,在所述第一字线端的控制下,向所述自旋源层提供所述第三位线端的信号。
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