[发明专利]光刻胶模型校准的优化图形选择方法、装置、系统和介质在审
| 申请号： | 202211385426.4 | 申请日： | 2022-11-07 |
| 公开（公告）号： | CN115616874A | 公开（公告）日： | 2023-01-17 |
| 发明（设计）人： | 王嘉硕;韦亚一;董立松;苏晓菁 | 申请（专利权）人： | 中国科学院微电子研究所 |
| 主分类号： | G03F7/20 | 分类号： | G03F7/20 |
| 代理公司： | 北京集佳知识产权代理有限公司 11227 | 代理人： | 卫三娟 |
| 地址： | 100029 北京市朝阳*** | 国省代码： | 北京;11 |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 光刻 模型 校准 优化 图形 选择 方法 装置 系统 介质 | ||
1.一种光刻胶模型校准的优化图形选择方法，其特征在于，包括：
获取多个初始优化图形；
对多个所述初始优化图形进行傅里叶变换得到各个所述初始优化图形分别对应的频谱；
检测各个所述初始优化图形分别对应的频谱与其他频谱重复的个数，并根据从大到小所述重复的个数对各个所述初始优化图形进行排序；
对各个所述初始优化图形的特征尺寸进行排序；
选择各个所述初始优化图形中排序前第一预设名次的图形、后第二预设名次的图形和各个所述初始优化图形中特征尺寸最小的图形作为最终优化图形。
2.根据权利要求1所述的方法，其特征在于，所述对多个所述初始优化图形进行傅里叶变换得到各个所述初始优化图形分别对应的频谱，包括：
根据各个所述初始优化图形的特征尺寸、周期和空域坐标进行傅里叶变换得到各个所述初始优化图形的频域坐标。
3.根据权利要求1所述的方法，其特征在于，所述初始优化图形的数量包括三个以上。
4.根据权利要求1所述的方法，其特征在于，在利用所述最终优化图形进行光刻胶模型校准后，还包括：
计算校准后的所述光刻胶模型对所述最终优化图形的平均误差的均方根值。
5.一种光刻胶模型校准的优化图形选择装置，其特征在于，包括：
获取单元，用于获取多个初始优化图形；
变换单元，用于对多个所述初始优化图形进行傅里叶变换得到各个所述初始优化图形分别对应的频谱；
重复量排序单元，用于检测各个所述初始优化图形分别对应的频谱与其他频谱重复的个数，并根据从大到小所述重复的个数对各个所述初始优化图形进行排序；
特征尺寸排序单元，用于对各个所述初始优化图形的特征尺寸进行排序；
选择单元，用于选择各个所述初始优化图形中排序前第一预设名次的图形、后第二预设名次的图形和各个所述初始优化图形中特征尺寸最小的图形作为最终优化图形。
6.根据权利要求5所述的装置，其特征在于，所述变换单元，具体用于：
根据各个所述初始优化图形的特征尺寸、周期和空域坐标进行傅里叶变换得到各个所述初始优化图形的频域坐标。
7.根据权利要求5所述的装置，其特征在于，所述初始优化图形的数量包括三个以上。
8.根据权利要求5所述的装置，其特征在于，所述装置还包括：
计算校准后的所述光刻胶模型对所述最终优化图形的平均误差的均方根值。
9.一种光刻胶模型校准的优化图形选择系统，其特征在于，包括：
存储器，用于存储计算机程序；
处理器，用于执行所述计算机程序时实现如权利要求1-4任意一项所述光刻胶模型校准的优化图形选择方法的步骤。
10.一种计算机可读介质，其特征在于，所述计算机可读介质上存储有计算机程序，所述计算机程序被处理执行时实现如权利要求1-4任意一项所述光刻胶模型校准的优化图形选择方法的步骤。
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