[发明专利]一种基于ALD工艺的氧化铝与氮化硅二合一机台镀膜设备

权利要求书

1.一种基于ALD工艺的氧化铝与氮化硅二合一机台镀膜设备，包括滑轨(100)，其特征在于，所述滑轨(100)上开设有两条滑槽，所述滑轨(100)的上方依次设置有清理机构(200)、制绒机构(300)、酸洗机构(400)、调节机构(500)以及镀膜机(600)，所述滑轨(100)上还设置有两组夹持机构(700)，所述两夹持机构(700)与上述各机构相互配合，所述清理机构(200)对物料的表面进行清理，所述制绒机构(300)用于物料表面制绒，所述酸洗机构(400)用于制绒后物料表面的杂质的清理，所述调节机构(500)用于调节物料的形态，所述镀膜机(600)用于对处理后的物料表面进行镀膜。

2.根据权利要求1所述的一种基于ALD工艺的氧化铝与氮化硅二合一机台镀膜设备，其特征在于，所述清理机构(200)包含清理盒(210)与清理刷辊(220)，所述清理盒(210)清理刷辊(220)水平安装在滑轨(100)的上方，所述清理盒(210)为预备清理刷辊(220)的右侧，所述清理刷辊(220)顺时针转动。

3.根据权利要求1所述的一种基于ALD工艺的氧化铝与氮化硅二合一机台镀膜设备，其特征在于，所述制绒机构(300)包含制绒电刷(310)，所述制绒电刷(310)平行与滑轨(100)设置，所述制绒电刷(310)的刷毛为导电材质。

4.根据权利要求1所述的一种基于ALD工艺的氧化铝与氮化硅二合一机台镀膜设备，其特征在于，所述酸洗机构(400)包含涂料头(410)，所述涂料头(410)呈水平布置，所述的上端安装有伸缩杆(411)，所述伸缩杆(411)通过安装板(412)固定安装。

5.根据权利要求1所述的一种基于ALD工艺的氧化铝与氮化硅二合一机台镀膜设备，其特征在于，所述调节机构(500)包含两组弯曲组件，所述两组弯曲组件分别设置在滑轨(100)的两侧，所述弯曲组件含一号引导杆(510)和二号引导杆(511)，所述一侧的弯曲组件通过避让组件与滑轨(100)连接。

6.根据权利要求5所述的一种基于ALD工艺的氧化铝与氮化硅二合一机台镀膜设备，其特征在于，所述一号引导杆(510)与二号引导杆(511)皆设置有两段，分别为直线段和弧形段，所述一号引导杆(510)的弧形段向上弯曲，所述二号引导杆(511)的弧形段向下弯曲，所述另一侧弯曲组件的弧形段的弯曲方向相反。

7.根据权利要求6所述的一种基于ALD工艺的氧化铝与氮化硅二合一机台镀膜设备，其特征在于，所述避让组件包含电动伸缩杆(520)，所述电动伸缩杆(520)通过安装条(521)固定安装，所述电动伸缩杆(520)呈平躺状，所述电动伸缩杆(520)的输出端安装有连接板(522)，所述连接板(522)的两端固定安装由于安装块(523)，所述连接板(522)和安装块(523)与安装条(521)之间为滑动连接，所述安装块(523)的上端分别弯曲组件的两引导杆固定安装。

8.根据权利要求5所述的一种基于ALD工艺的氧化铝与氮化硅二合一机台镀膜设备，其特征在于，所述夹持机构(700)包含两组夹持组件，所述夹持组件包含两安装环(710)，所述两安装环(710)的下端通过连接组件与滑轨(100)连接，所述一侧的安装环(710)上端安装有配合组件，所述两组夹持组件的配合组件呈对角线设置，所述安装环(710)内部转动连接有电动转盘(711)，所述电动转盘(711)上开设有两条滑道，所述两条滑道的内部滑动连接有两滑块(712)，所述滑块(712)与电动转盘(711)之间设置有调节弹簧(713)，所述两电动转盘(711)之间设置有两辊轴(714)，所述两辊轴(714)呈上下排布，所述两辊轴(714)的两端固定安装在对应的滑块(712)侧壁，所述辊轴(714)的外表面活动套接有夹持辊(715)。