[发明专利]一种基于ALD工艺的氧化铝与氮化硅二合一机台镀膜设备

说明书

本发明及镀膜设备技术领域，公开了一种基于ALD工艺的氧化铝与氮化硅二合一机台镀膜设备，包括滑轨，滑轨上开设有两条滑槽，滑轨的上方依次设置有清理机构、制绒机构、酸洗机构、调节机构以及镀膜机，滑轨上还设置有两组夹持机构，两夹持机构与上各机构相互配合，制绒机构用于物料表面制绒，酸洗机构用于制绒后物料表面的杂质的清理，调节机构用于调节物料的形态；本发明通过设置两组夹持组件与上方的各个机构相互配合，可自动完成对物料表面清理、制绒、酸洗、以及镀膜等工艺，且通过设置调节机构与夹持组件的配合，对物料表面进行深度清理，进一步提升了表面的酸洗效果，同时提升表面的镀膜效果。

技术领域

本发明涉及镀膜设备技术领域，更具体地说，它涉及一种基于ALD工艺的氧化铝与氮化硅二合一机台镀膜设备。

背景技术

ALD是一种可以将物质以单原子膜形式一层一层的镀在基底表面的方法。原子层沉积与普通的化学沉积有相似之处。但在原子层沉积过程中，新一层原子膜的化学反应是直接与之前一层相关联的，这种方式使每次反应只沉积一层原子，在进行镀膜前，需要对硅片的表面进行清理酸洗等操作，以保证镀膜的效果更好。

现有技术对硅片表面进行酸洗时，由于制绒后表面凹凸不平，导致酸洗效果较差，酸洗液在制绒的凹面形成薄膜，酸洗液无法对表面进行深度清理，导致镀膜效果不佳。因此，我们发明了一种基于ALD工艺的氧化铝与氮化硅二合一机台镀膜设备，以解决此类问题。

发明内容

本发明提供一种基于ALD工艺的氧化铝与氮化硅二合一机台镀膜设备，解决相关技术制绒后表面凹凸不平，导致酸洗效果较差，酸洗液在制绒的凹面形成薄膜，酸洗液无法对表面进行深度清理，导致镀膜效果不佳的技术问题。

根据本发明的一个方面，提供了一种基于ALD工艺的氧化铝与氮化硅二合一机台镀膜设备，包括滑轨，滑轨上开设有两条滑槽，滑轨的上方依次设置有清理机构、制绒机构、酸洗机构、调节机构以及镀膜机，滑轨上还设置有两组夹持机构，两夹持机构与上各机构相互配合，清理机构对物料的表面进行清理，制绒机构用于物料表面制绒，酸洗机构用于制绒后物料表面的杂质的清理，调节机构用于调节物料的形态，镀膜机用于对处理后的物料表面进行镀膜。

进一步地：清理机构包含清理盒与清理刷辊，清理盒清理刷辊水平安装在滑轨的上方，清理盒为预备清理刷辊的右侧，清理刷辊顺时针转动。

进一步地：制绒机构包含制绒电刷，制绒电刷平行与滑轨设置，制绒电刷的刷毛为导电材质。

进一步地：酸洗机构包含涂料头，涂料头呈水平布置，的上端安装有伸缩杆，伸缩杆通过安装板固定安装。

进一步地：调节机构包含两组弯曲组件，两组弯曲组件分别设置在滑轨的两侧，弯曲组件含一号引导杆和二号引导杆，一侧的弯曲组件通过避让组件与滑轨连接。

进一步地：一号引导杆与二号引导杆皆设置有两段，分别为直线段和弧形段，一号引导杆的弧形段向上弯曲，二号引导杆的弧形段向下弯曲，另一侧弯曲组件的弧形段的弯曲方向相反。

进一步地：避让组件包含电动伸缩杆，电动伸缩杆通过安装条固定安装，电动伸缩杆呈平躺状，电动伸缩杆的输出端安装有连接板，连接板的两端固定安装由于安装块，连接板和安装块与安装条之间为滑动连接，安装块的上端分别弯曲组件的两引导杆固定安装。

进一步地：夹持机构包含两组夹持组件，夹持组件包含两安装环，两安装环的下端通过连接组件与滑轨连接，一侧的安装环上端安装有配合组件，两组夹持组件的配合组件呈对角线设置，安装环内部转动连接有电动转盘，电动转盘上开设有两条滑道，两条滑道的内部滑动连接有两滑块，滑块与电动转盘之间设置有调节弹簧，两电动转盘之间设置有两辊轴，两辊轴呈上下排布，两辊轴的两端固定安装在对应的滑块侧壁，辊轴的外表面活动套接有夹持辊。