[发明专利]一种刻蚀装置

权利要求书

1.一种刻蚀装置，其特征在于，包括：

反应腔，所述反应腔限定出反应空间；

上电极，所述上电极设置于所述反应空间中，所述上电极与至少两个输出不同功率范围的上射频电源连接；

通信器，所述通信器与至少两个所述上射频电源信号连接；

控制器，所述控制器与所述通信器信号连接，用于通过所述通信器向所述上射频电源发送控制信号，以切换所述上电极输出的电源功率，调整所述反应空间中等离子轰击速率。

2.如权利要求1所述的装置，其特征在于，所述通信器包括至少两个支持不同通信方式的通信单元。

3.如权利要求1所述的装置，其特征在于，所述反应腔在靠近所述上电极的侧壁上形成进气口。

4.如权利要求1-3中任一项所述的装置，其特征在于，还包括：

下电极，所述下电极与所述上电极相对地设置在所述反应空间中，用于承载待测样片，所述下电极与下射频电源连接。

5.如权利要求4所述的装置，其特征在于，所述反应腔在靠近所述下电极的侧壁上形成出气口。

6.如权利要求1-3中任一项所述的装置，其特征在于，还包括：

显示器，所述显示器与所述控制器电连接，用于显示和设定所述通讯器与上射频电源的通讯参数。