[发明专利]一种校准方法和校准装置在审

专利信息
申请号: 202211457424.1 申请日: 2022-11-18
公开(公告)号: CN115720264A 公开(公告)日: 2023-02-28
发明(设计)人: 王力;吴红峤;盛磊;常亮;高云峰 申请(专利权)人: 大族激光科技产业集团股份有限公司
主分类号: H04N13/246 分类号: H04N13/246
代理公司: 暂无信息 代理人: 暂无信息
地址: 518057 广东*** 国省代码: 广东;44
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摘要:
搜索关键词: 一种 校准 方法 装置
【权利要求书】:

1.一种校准方法,用于校准测量器具,其特征在于,包括:

以结构固定且尺寸已知的标准块作为校准治具,标准块主体一侧面上设有标记结构;

利用测量器具采集标准块的结构轮廓;

以设有标记结构的标准块主体的侧面沿第一方向和第二方向的轮廓水平校准测量器具;以及

将测量得到的标记结构的轮廓尺寸与该标记结构已知实际轮廓尺寸建立关联关系,得到对应的关联系数,根据关联系数调节测量器具以校准测量精度。

2.如权利要求1所述的校准方法,其特征在于,所述校准方法还包括:

水平校准载物治具和测量器具;以及

将标准块设置于载物治具上。

3.如权利要求1所述的校准方法,其特征在于,所述校准方法还包括:

调节提升测量器具对标准块的分辨率。

4.如权利要求1所述的校准方法,其特征在于,所述“利用测量器具采集标准块的结构轮廓”包括:

利用测量器具采集标准块主体的轮廓;以及

利用测量器具采集标准块上标记结构的轮廓。

5.如权利要求3所述的校准方法,其特征在于,所述“调节提升测量器具对标准块的分辨率”包括:

调节测量器具的图像采集端距标准块的距离提升测量器具的分辨率。

6.如权利要求4所述的校准方法,其特征在于,所述“利用测量器具采集标准块主体的轮廓”包括:

利用测量器具采集设有标记结构的标准块主体的侧面沿第一方向的轮廓;以及

利用测量器具采集设有标记结构的标准块主体的侧面沿第二方向的轮廓。

7.如权利要求6所述的校准方法,其特征在于,所述“以设有标记结构的标准块主体的侧面沿第一方向和第二方向的轮廓水平校准测量器具”包括:

以设有标记结构的标准块主体的侧面沿第一方向的轮廓水平校准测量器具的第二方向;以及

以设有标记结构的标准块主体的侧面沿第二方向的轮廓水平校准测量器具的第一方向。

8.如权利要求7所述的校准方法,其特征在于,所述“以设有标记结构的标准块主体的侧面沿第一方向的轮廓水平校准测量器具的第二方向”包括:

以设有标记结构的标准块主体的侧面沿第一方向的轮廓为第二方向基准,识别测量器具的沿第二方向标识相对第二方向基准的两端距离差是否超过0.05毫米;以及

若超过,则调整测量器具相对第二方向的夹角。

9.如权利要求7所述的校准方法,其特征在于,所述“以设有标记结构的标准块主体的侧面沿第二方向的轮廓水平校准测量器具的第一方向”包括:

以设有标记结构的标准块主体的侧面沿第二方向的轮廓为第一方向基准,识别测量器具的沿第一方向标识相对第一方向基准的两端距离差是否超过0.05毫米;以及

若超过,则调整测量器具相对第一方向的夹角。

10.如权利要求7所述的校准方法,其特征在于,所述“利用测量器具采集标准块上标记结构的轮廓”包括:

利用测量器具采集标记结构沿第一方向的尺寸;

利用测量器具采集标记结构沿第二方向的尺寸;以及

利用测量器具采集标记结构沿第三方向的尺寸。

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