[发明专利]雾化芯、雾化器、气溶胶发生装置及雾化芯制备方法

权利要求书

1.一种雾化芯，其特征在于，包括：

发热膜，用于在通电后加热并雾化气溶胶形成基质；

基底，用于承载所述发热膜，所述基底上设有用于供气溶胶形成基质传输至所述发热膜的通孔；以及

其中，所述基底上设有用于供所述发热膜结合于所述基底上的结合面，所述结合面的粗糙度为0.003～15μm，所述发热膜设置于所述结合面上。

2.如权利要求1所述的雾化芯，其特征在于，所述发热膜包括粘附层和加热层，所述粘附层结合于所述结合面上，所述加热层结合于所述粘附层背离所述结合面的一面上。

3.如权利要求2所述的雾化芯，其特征在于，所述加热层的厚度为100～1000nm。

4.如权利要求2所述的雾化芯，其特征在于，所述粘附层的厚度为1～100nm。

5.如权利要求2所述的雾化芯，其特征在于，所述发热膜还包括电极层，所述电极层结合于所述粘附层和/或所述加热层上，所述电极层与所述加热层电性相连。

6.如权利要求5所述的雾化芯，其特征在于，所述电极层的厚度为100～2000nm。

7.如权利要求1至6任一项所述的雾化芯，其特征在于，所述基底由石英、硅、蓝宝石、氧化锆陶瓷和不锈钢材料中的至少一种材料制成。

8.如权利要求1至6任一项所述的雾化芯，其特征在于，所述基底的热膨胀系数为(0.5～15)×10^-6/K，所述发热膜的热膨胀系数为(5～20)×10^-6/K，所述发热膜的热膨胀系数大于或等于所述基底的热膨胀系数。

9.一种雾化器，其特征在于，包括如权利要求1至8任一项所述的雾化芯。

10.一种气溶胶发生装置，其特征在于，包括如权利要求1至8任一项所述的雾化芯或如权利要求9所述的雾化器。

11.一种雾化芯制备方法，其特征在于，包括如下步骤：

步骤S01：将基底进行表面粗糙化处理，使得所述基底的结合面的粗糙度为0.003～15μm；

步骤S02：在所述基底的结合面上沉积粘附层；

步骤S03：在所述粘附层上沉积加热层；

步骤S04：在所述粘附层和/或所述加热层上沉积电极层；

其中，所述粘附层、所述加热层和所述电极层构成结合于所述结合面上的发热膜，所述基底上设有用于供气溶胶形成基质传输至所述发热膜的通孔。

12.如权利要求11所述的雾化芯制备方法，其特征在于，所述雾化芯制备方法还包括有序孔基底制备步骤，所述有序孔基底制备步骤包括：

选取硅板作为基底，采用湿法刻蚀、干法刻蚀和激光烧蚀中的至少一种开孔工艺，在所述基底上开设多个所述通孔，获得有序孔基底；

或者，选取玻璃板为基底，采用喷砂法、光敏玻璃法、聚焦放电法、等离子刻蚀法、激光烧蚀法、电化学法、激光诱导刻蚀法中的至少一种开孔工艺，在所述基底上开设多个所述通孔，获得有序孔基底；

或者，选取蓝宝石板、氧化锆陶瓷板或不锈钢板为基底，采用湿法腐蚀和激光烧蚀中的至少一种开孔工艺，在所述基底上开设多个所述通孔，获得有序孔基底。

13.如权利要求11所述的雾化芯制备方法，其特征在于，所述表面粗糙化处理步骤中，通过50～600目研磨设备对所述基底的单面进行研磨，使得所述基底的结合面的粗糙度为0.003～15μm；

或者，通过50～600目研磨设备对所述基底的双面进行研磨，使得所述基底的结合面和所述基底的吸液面的粗糙度均为0.003～15μm，所述吸液面为所述基底背离所述结合面的另一表面。