[发明专利]包括侧照明单元的检查系统和使用检查系统的检查方法在审
申请号: | 202211496263.7 | 申请日: | 2022-11-23 |
公开(公告)号: | CN116243556A | 公开(公告)日: | 2023-06-09 |
发明(设计)人: | 崔正勋;郑胤松;刘相用 | 申请(专利权)人: | 三星电子株式会社 |
主分类号: | G03F1/84 | 分类号: | G03F1/84;F21V19/00;G03B15/03 |
代理公司: | 中科专利商标代理有限责任公司 11021 | 代理人: | 张霞;周祺 |
地址: | 韩国*** | 国省代码: | 暂无信息 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 包括 照明 单元 检查 系统 使用 方法 | ||
1.一种检查系统,包括:
台单元,被配置为在所述台单元上加载空白掩模;
侧照明单元,被配置为面对所述空白掩模的侧表面,所述侧照明单元包括多个发光二极管;以及
相机,与所述空白掩模邻近。
2.根据权利要求1所述的检查系统,其中,所述侧照明单元被配置为使得:从所述侧照明单元朝向所述空白掩模的侧表面照射的检查光束相对于所述空白掩模的上表面形成0至10度的角度。
3.根据权利要求1所述的检查系统,其中,所述侧照明单元被配置为使得:从所述侧照明单元朝向所述空白掩模的侧表面照射的检查光束与所述空白掩模的上表面平行。
4.根据权利要求1所述的检查系统,其中,所述侧照明单元被配置为使得:从所述侧照明单元朝向所述空白掩模的侧表面照射的检查光束的宽度为所述空白掩模的厚度的1至2倍。
5.根据权利要求1所述的检查系统,其中,所述侧照明单元的水平宽度为所述空白掩模的最大水平宽度的1至2倍。
6.根据权利要求1所述的检查系统,其中,
所述侧照明单元具有环形;并且
所述侧照明单元的内周长大于所述空白掩模的周长。
7.根据权利要求1所述的检查系统,还包括:
竖直照明单元,与所述相机邻近并与所述侧照明单元间隔开。
8.根据权利要求7所述的检查系统,其中,所述竖直照明单元被配置为使得:从所述竖直照明单元照射的检查光束相对于所述空白掩模的上表面所形成的角度在85至90度之间。
9.根据权利要求7所述的检查系统,其中,所述竖直照明单元被配置为使得:从所述竖直照明单元照射的检查光束相对于所述空白掩模的上表面垂直。
10.根据权利要求1所述的检查系统,还包括:
倾斜照明单元,被配置为在倾斜方向上朝向所述空白掩模的上表面照射检查光束。
11.根据权利要求10所述的检查系统,其中,所述倾斜方向相对于所述空白掩模的上表面在15至85度之间。
12.根据权利要求1所述的检查系统,还包括:
图像处理单元,连接到所述相机。
13.一种检查系统中的检查方法,
其中所述检查系统包括:
台单元,被配置为在所述台单元上加载空白掩模;
侧照明单元,被配置为面对所述空白掩模的侧表面,所述侧照明单元包括多个发光二极管;以及
相机,与所述空白掩模邻近;
所述检查方法包括:
在所述台单元上加载所述空白掩模;
将来自所述侧照明单元的检查光束照射到所述空白掩模上;以及
使用所述相机来检测所述空白掩模的图像。
14.根据权利要求13所述的检查方法,其中,从所述侧照明单元朝向所述空白掩模的侧表面照射的检查光束相对于所述空白掩模的上表面形成0至10度的角度。
15.根据权利要求13所述的检查方法,其中,从所述侧照明单元朝向所述空白掩模的侧表面照射的检查光束平行于所述空白掩模的上表面。
16.根据权利要求13所述的检查方法,其中,从所述侧照明单元朝向所述空白掩模的侧表面照射的检查光束的宽度在所述空白掩模的厚度的1至2倍之间。
17.根据权利要求13所述的检查方法,其中,所述侧照明单元的水平宽度为所述空白掩模的最大水平宽度的1至2倍。
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G03F 图纹面的照相制版工艺,例如,印刷工艺、半导体器件的加工工艺;其所用材料;其所用原版;其所用专用设备
G03F1-00 用于图纹面的照相制版的原版,例如掩膜,光掩膜;其所用空白掩膜或其所用薄膜;其专门适用于此的容器;其制备
G03F1-20 .用于通过带电粒子束(CPB)辐照成像的掩膜或空白掩膜,例如通过电子束;其制备
G03F1-22 .用于通过100nm或更短波长辐照成像的掩膜或空白掩膜,例如 X射线掩膜、深紫外
G03F1-26 .相移掩膜[PSM];PSM空白;其制备
G03F1-36 .具有临近校正特征的掩膜;其制备,例如光学临近校正(OPC)设计工艺
G03F1-38 .具有辅助特征的掩膜,例如用于校准或测试的特殊涂层或标记;其制备