[发明专利]包括侧照明单元的检查系统和使用检查系统的检查方法

说明书

检查系统包括台单元，被配置为在所述台单元上加载空白掩模。提供了侧照明单元，被设置为面对空白掩模的侧表面，并且包括多个LED。提供了与空白掩模邻近的相机。从侧照明单元朝向空白掩模的侧表面照射的检查光束基本上平行于空白掩模的上表面。

相关申请的交叉引用

本专利申请要求于2021年12月8日在韩国知识产权局提交的韩国专利申请No.10-2021-0174618的优先权，其公开内容通过引用整体并入本文。

技术领域

本公开的示例实施例涉及包括侧照明单元的空白掩模检查系统和使用该空白掩模检查系统的空白掩模检查方法。

背景技术

在半导体器件制造过程中使用各种掩模。掩模通常使用空白掩模形成，因此空白掩模的缺陷可能导致半导体器件制造过程中的各种问题。需要用于快速检测和准确检查空白掩模的缺陷的技术。

发明内容

本公开的示例实施例提供了能够快速准确地检查空白掩模的缺陷的检查系统和检查方法。

根据本公开的示例实施例的检查系统包括：台单元，被配置为在台单元上加载空白掩模；侧照明单元，被配置为面对空白掩模的侧表面，并且包括多个LED；以及相机，与空白掩模邻近。

根据本公开的示例实施例的检查方法包括：在台单元上加载空白掩模；将来自侧照明单元的检查光束照射到空白掩模上；以及使用相机来检测空白掩模的图像。

根据本公开的示例实施例的检查系统包括：台单元，被配置为在台单元上加载空白掩模；照明单元，与空白掩模邻近并且包括多个LED；相机，与空白掩模邻近；以及图像处理单元，连接到所述相机。照明单元包括：侧照明单元，被配置为朝向空白掩模的侧表面照射检查光束，该检查光束相对于空白掩模的上表面形成0至10度之间的角度；倾斜照明单元，被配置为朝向空白掩模的上表面照射检查光束，该检查光束相对于空白掩模的上表面形成15至85度之间的角度；以及竖直照明单元，被配置为朝向空白掩模的上表面照射检查光束，该检查光束相对于空白掩模的上表面形成85至90度之间的角度。

附图说明

图1是说明根据本公开的一些示例实施例的检查系统的示意图。

图2是说明根据本公开的一些示例实施例的检查系统的框图。

图3至图8是说明根据本公开的一些示例实施例的检查系统的侧照明单元的布局。

图9至图11是说明根据本公开的一些示例实施例的空白掩模的截面图。

图12至图14是说明根据本公开的一些示例实施例的检查系统的示意图。

图15至图19是说明根据本公开的一些示例实施例的使用检查系统的检查方法的示意图。

具体实施方式

下面将参考附图更全面地描述各种示例实施例，在附图中示出了一些示例实施例。在附图中，相同的附图标记始终表示相同的元素。可以省略重复的描述。

元素和/或其属性(例如，结构、表面、方向等)例如与其他元素和/或其属性平行，这将被理解为与其他元素和/或其属性在制造容差和/或材料容差内基本上平行，和/或相对于其他元素和/或其属性偏离“平行”等的幅度和/或角度上的偏差等于或小于10％(例如，±10％的容差)。类似地，可以被称为相对于其他元素及/或其属性(例如，结构、表面、方向等)“垂直”、“平行”、“共面”等的元素和/或其属性(例如，结构、表面、方向等)可以是相对于其他元素及/或其属性分别为“垂直的”、“平行的”、“共面的”等，和/或可以是“基本上垂直的”、“基本上平行的”、“基本上共面的”。

图1是说明根据本公开的一些示例实施例的检查系统100的示意图。