[发明专利]一种三相桥电路的陶瓷封装工艺在审
申请号: | 202211504007.8 | 申请日: | 2022-11-28 |
公开(公告)号: | CN115910804A | 公开(公告)日: | 2023-04-04 |
发明(设计)人: | 辛显镕;崔怀军 | 申请(专利权)人: | 西安广勤电子技术有限公司 |
主分类号: | H01L21/48 | 分类号: | H01L21/48;H01L21/60;H01L21/50;H01L21/66 |
代理公司: | 西安智艺浩晖专利代理事务所(普通合伙) 61274 | 代理人: | 史艳艳 |
地址: | 710000 陕西省西安市市辖区高新*** | 国省代码: | 陕西;61 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 一种 三相 电路 陶瓷封装 工艺 | ||
1.一种三相桥电路的陶瓷封装工艺,其特征在于:包括以下步骤:
S1.陶瓷基板与外壳成型:
使用包含氧化铝和氧化铍的无机材料以及有机材料烧结成陶瓷基板;
将陶瓷生片在氮氢混合气中进行烧结,烧结后制成外壳;
S2、管座上涂胶与贴片:使用点胶机点胶,将芯片贴在基板上,并在指定温度的环境下固化0.5-1.5h;
S3.等离子清洗:通过等离子清洗机对固化后的管座进行清洗;
S4、引线键合:安装引线和劈刀,设置参数后通过引线键合机进行键合;
S5、盖板封接、将管座与盖板放入缝焊设备中,对缝焊设备进行无氧处理,盖上盖板启动机器进行缝焊;
S6、检漏:将样品放入氟油中,进行漏气检验;
S7、环境测试:将样品放入相应的试验箱中按照设定试验程序执行。
2.根据权利要求1所述的一种三相桥电路的陶瓷封装工艺,其特征在于:所述S1中有机材料包括粘合剂、塑化剂和有机溶剂中的一种或几种。
3.根据权利要求1所述的一种三相桥电路的陶瓷封装工艺,其特征在于:所述S1中制得的外壳进行电镀处理,所述电镀处理为对外壳暴露的金属进行镀Ni,然后将金属零件钎焊到陶瓷基体上,最后将暴露的金属进行表面镀Au。
4.根据权利要求3所述的一种三相桥电路的陶瓷封装工艺,其特征在于:所述钎焊为Ag-Cu钎焊。
5.根据权利要求1所述的一种三相桥电路的陶瓷封装工艺,其特征在于:所述S2中的指定温度为140℃-160℃。
6.根据权利要求1所述的一种三相桥电路的陶瓷封装工艺,其特征在于:所述S4中设置参数为:
金丝规格:23μm-28μm;
将用于夹持键合机的夹具的温度控制在150±2℃;
将键合机的劈刀压力控制在17±2gf。
7.根据权利要求1所述的一种三相桥电路的陶瓷封装工艺,其特征在于:所述S5中的无氧处理为抽真空或充氮气。
8.根据权利要求1所述的一种三相桥电路的陶瓷封装工艺,其特征在于:所述S6中的漏气检验为将样品放入氟油中,如果出现明显的氟油泡说明有漏气存在,否则即为通过测试。
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H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L21-00 专门适用于制造或处理半导体或固体器件或其部件的方法或设备
H01L21-02 .半导体器件或其部件的制造或处理
H01L21-64 .非专门适用于包含在H01L 31/00至H01L 51/00各组的单个器件所使用的除半导体器件之外的固体器件或其部件的制造或处理
H01L21-66 .在制造或处理过程中的测试或测量
H01L21-67 .专门适用于在制造或处理过程中处理半导体或电固体器件的装置;专门适合于在半导体或电固体器件或部件的制造或处理过程中处理晶片的装置
H01L21-70 .由在一共用基片内或其上形成的多个固态组件或集成电路组成的器件或其部件的制造或处理;集成电路器件或其特殊部件的制造