[发明专利]一种三相桥电路的陶瓷封装工艺在审

专利信息
申请号: 202211504007.8 申请日: 2022-11-28
公开(公告)号: CN115910804A 公开(公告)日: 2023-04-04
发明(设计)人: 辛显镕;崔怀军 申请(专利权)人: 西安广勤电子技术有限公司
主分类号: H01L21/48 分类号: H01L21/48;H01L21/60;H01L21/50;H01L21/66
代理公司: 西安智艺浩晖专利代理事务所(普通合伙) 61274 代理人: 史艳艳
地址: 710000 陕西省西安市市辖区高新*** 国省代码: 陕西;61
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摘要:
搜索关键词: 一种 三相 电路 陶瓷封装 工艺
【权利要求书】:

1.一种三相桥电路的陶瓷封装工艺,其特征在于:包括以下步骤:

S1.陶瓷基板与外壳成型:

使用包含氧化铝和氧化铍的无机材料以及有机材料烧结成陶瓷基板;

将陶瓷生片在氮氢混合气中进行烧结,烧结后制成外壳;

S2、管座上涂胶与贴片:使用点胶机点胶,将芯片贴在基板上,并在指定温度的环境下固化0.5-1.5h;

S3.等离子清洗:通过等离子清洗机对固化后的管座进行清洗;

S4、引线键合:安装引线和劈刀,设置参数后通过引线键合机进行键合;

S5、盖板封接、将管座与盖板放入缝焊设备中,对缝焊设备进行无氧处理,盖上盖板启动机器进行缝焊;

S6、检漏:将样品放入氟油中,进行漏气检验;

S7、环境测试:将样品放入相应的试验箱中按照设定试验程序执行。

2.根据权利要求1所述的一种三相桥电路的陶瓷封装工艺,其特征在于:所述S1中有机材料包括粘合剂、塑化剂和有机溶剂中的一种或几种。

3.根据权利要求1所述的一种三相桥电路的陶瓷封装工艺,其特征在于:所述S1中制得的外壳进行电镀处理,所述电镀处理为对外壳暴露的金属进行镀Ni,然后将金属零件钎焊到陶瓷基体上,最后将暴露的金属进行表面镀Au。

4.根据权利要求3所述的一种三相桥电路的陶瓷封装工艺,其特征在于:所述钎焊为Ag-Cu钎焊。

5.根据权利要求1所述的一种三相桥电路的陶瓷封装工艺,其特征在于:所述S2中的指定温度为140℃-160℃。

6.根据权利要求1所述的一种三相桥电路的陶瓷封装工艺,其特征在于:所述S4中设置参数为:

金丝规格:23μm-28μm;

将用于夹持键合机的夹具的温度控制在150±2℃;

将键合机的劈刀压力控制在17±2gf。

7.根据权利要求1所述的一种三相桥电路的陶瓷封装工艺,其特征在于:所述S5中的无氧处理为抽真空或充氮气。

8.根据权利要求1所述的一种三相桥电路的陶瓷封装工艺,其特征在于:所述S6中的漏气检验为将样品放入氟油中,如果出现明显的氟油泡说明有漏气存在,否则即为通过测试。

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