[发明专利]一种非均匀性校正单个偏移参数的校正算法在审
申请号: | 202211511725.8 | 申请日: | 2022-11-29 |
公开(公告)号: | CN115752759A | 公开(公告)日: | 2023-03-07 |
发明(设计)人: | 宋鸿飞;张馨壬;曹文晓;张科航;谭文;郭飞;周见红;孟颖;闫钰锋;李鹏飞;张云朋;王子乾 | 申请(专利权)人: | 长春理工大学 |
主分类号: | G01J5/90 | 分类号: | G01J5/90;G06F17/10 |
代理公司: | 合肥左心专利代理事务所(普通合伙) 34152 | 代理人: | 朱磊 |
地址: | 130022 吉林*** | 国省代码: | 吉林;22 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 一种 均匀 校正 单个 偏移 参数 算法 | ||
1.一种非均匀性校正单个偏移参数的校正算法,其特征在于,所述校正算法包括如下步骤:
步骤1,通过采集标准校正参考源在低温和高温情况下非制冷红外焦平面阵列上任一个像元的响应值,计算得到隶属于像元的校正系数;
步骤2,构造像元响应模型中单偏移校正参数存储模型,该单偏移校正参数存储模型包括:校正响应增益系数存储模型={隶属于像元的采集数据地址,校正响应增益系数,隶属于校正响应增益系数的提取参数},校正响应偏置系数存储模型={隶属于像元的采集数据地址,校正响应偏置系数,隶属于校正响应偏置系数的提取参数};
聚合单偏移校正参数存储模型生成复合校正存储模型={隶属于像元的采集数据地址,隶属于复合校正系数的提取参数,校正响应增益系数存储模型,校正响应偏置系数存储模型};
步骤3,获取非制冷红外焦平面阵列上隶属于像元的采集数据地址、与在辐射通量ΦK下的响应值RvK;
调用与像元的采集数据地址对应的复合校正存储模型,在隶属于复合校正系数的提取参数的参与作用下,若采集数据地址识别确认成功,则从复合校正存储模型中提取出单偏移校正参数存储模型;
在隶属于单偏移参数的提取参数的参与作用下,若采集数据地址识别确认成功,则从单偏移校正参数存储模型中提取出校正响应增益系数和校正响应偏置系数,据此输出响应值RvK的校正值ERv(ΦK)。
2.根据权利要求1所述的一种非均匀性校正单个偏移参数的校正算法,其特征在于,所述校正响应增益系数存储模型为存储模型SMG,其生成步骤如下:
设定存储模型SMG的存储系数Gr,然后执行如下的计算过程:
基于存储系数Gr的第一提取参数GR;
基于存储系数Gr的第二提取参数Gh;
基于存储系数Gr的第三提取参数GV;
输出存储模型SMG为{隶属于像元的采集数据地址,校正响应增益系数,第一提取参数GR,第三提取参数GV}。
3.根据权利要求2所述的一种非均匀性校正单个偏移参数的校正算法,其特征在于,所述校正响应偏置系数存储模型为存储模型SMOf,其具体生成步骤如下:
设定存储模型SMOf的存储系数Or,然后执行如下的计算过程:
基于存储系数Orppij的第一提取参数OR;
基于存储系数Orppij的第二提取参数Oh;
基于存储系数Orppij的第三提取参数OV;
输出存储模型SMOfppij为{隶属于像元的采集数据地址,校正响应偏置系数,第一提取参数OR,第三提取参数OV}。
4.根据权利要求3所述的一种非均匀性校正单个偏移参数的校正算法,其特征在于,所述复合校正存储模型为存储模型SM,其具体生成步骤如下:
根据存储模型SMG的第一提取参数GR和存储模型SMOf的第一提取参数OR,计算像元的复合校正偏移参数的第一提取参数R=GhGR+OhOR;
根据存储模型SMG的第三提取参数GV和存储模型SMOf的第三提取参数OV,计算像元的复合校正偏移参数的第三提取参数V=GV+OV;
输出存储模型SM为{隶属于像元的采集数据地址,第一提取参数R,第三提取参数V,存储模型SMG,存储模型SMOf}。
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