[发明专利]一种纳米压印硬模板的清洗方法

权利要求书

1.一种纳米压印硬模板的清洗方法，其特征在于，具体包括以下步骤：

S1：将纳米压印硬模板浸泡于DHF溶液中；

S2：利用纯水去除纳米压印硬模板表面的DHF溶液；

S3：利用SPM溶液去除纳米压印硬模板表面的有机物，SPM溶液为硫酸与双氧水的混合溶液；

S4：利用纯水去除纳米压印硬模板表面的SPM溶液；

S5：利用SC1溶液去除纳米压印硬模板表面的金属离子，SC1溶液为氨水、双氧水与水的混合溶液；

S6：利用纯水去除纳米压印硬模板表面的SC1溶液；

S7：利用SRD甩干机对纳米压印硬模板进行干燥处理。

2.根据权利要求1所述的清洗方法，其特征在于，S2、S4、S6分别具体包括以下内容：将纳米压印硬模板放置于纯水槽内后，对其进行以下操作：

(a)向纯水槽内纯水充入气体至纯水鼓泡，纯水槽内纯水从上溢流排出，并持续一定时间；

(b)纯水喷淋后，纯水从纯水槽的排水口排出，并持续一定时间；

(c)纯水喷淋后，纯水槽内纯水从上溢流排出，并持续一定时间；

(d)纯水槽内纯水从上溢流排出，持续一定时间；

其中，操作(a)、(b)、(c)、(d)按序进行或错序进行。

3.根据权利要求2所述的清洗方法，其特征在于，纯水槽内的纯水的温度为25℃～30℃之间。

4.根据权利要求2所述的清洗方法，其特征在于，S2、S4、S6中，操作(a)、(b)、(c)、(d)执行一次或多次。

5.根据权利要求1所述的清洗方法，其特征在于，S3具体包括以下步骤：

S3.1：将纳米压印硬模板放置于SPM溶液槽内；

S3.2：向SPM溶液槽内SPM溶液充入气体至SPM溶液鼓泡，并持续一定时间；

S3.3：SPM溶液槽内卡塞定位装置抖动，且向SPM溶液槽内SPM溶液充入气体至SPM溶液鼓泡，并持续一定时间；

S3.4：向SPM溶液槽内SPM溶液充入气体至SPM溶液鼓泡，并持续一定时间。

6.根据权利要求1所述的清洗方法，其特征在于，S5具体包括以下步骤：

S5.1：将纳米压印硬模板放置于SC1溶液槽内；

S5.2：利用超声使SC1溶液震动，且向SC1溶液槽内SC1溶液充入气体至SC1溶液鼓泡，并持续一定时间。

7.根据权利要求1所述的清洗方法，其特征在于，S7具体包括以下步骤：

S7.1：将纳米压印硬模板放置于SRD甩干机内；

S7.2：SRD甩干机内腔体加热至60℃～80℃，对纳米压印硬模板进行喷淋冲洗，以600～800转每分钟旋转，并持续一定时间；

S7.3：SRD甩干机内腔体加热至60℃～80℃，利用喷嘴对纳米压印硬模板进行吹干，以1200-1800转每分钟旋转，并持续一定时间；

S7.4：SRD甩干机内腔体加热至60℃～80℃，冲入60℃～80℃氮气，利用热氮烘干纳米压印硬模板，以800-1200转每分钟旋转，并持续一定时间。

8.根据权利要求1-7任一项所述的清洗方法，其特征在于，SPM溶液为硫酸与双氧水按照体积比3：1～4：1进行配比，且温度为120℃-130℃的混合溶液。

9.根据权利要求1-7任一项所述的清洗方法，其特征在于，SC1溶液为氨水、双氧水与水按照体积比1：1：5～1：1：6进行配比，且温度为50℃～80℃的混合溶液。