[发明专利]一种纳米压印硬模板的清洗方法

说明书

本发明公开一种纳米压印硬模板的清洗方法，具体包括以下步骤：S1：将纳米压印硬模板浸泡于DHF溶液中；S2：利用纯水去除纳米压印硬模板表面的DHF溶液；S3：利用SPM溶液去除纳米压印硬模板表面的有机物，SPM溶液为硫酸与双氧水的混合溶液；S4：利用纯水去除纳米压印硬模板表面的SPM溶液；S5：利用SC1溶液去除纳米压印硬模板表面的金属离子，SC1溶液为氨水、双氧水与水的混合溶液；S6：利用纯水去除纳米压印硬模板表面的SC1溶液；S7：利用SRD甩干机对纳米压印硬模板进行干燥处理。本发明可以有效的清洗掉硬模板表面的软膜胶，使硬模板可以重复利用降低生产成本。

技术领域

本发明具体涉及一种纳米压印硬模板的清洗方法。

背景技术

随着微纳加工技术的不断发展和进步，纳米压印技术突破了传统光刻在特征尺寸减小过程中的难题，具有分辨率高、低成本、高产率的特点。广泛应用于半导体制造、MEMS、生物芯片等各个有涉及微纳加工之领域。

鉴于纳米压印技术的广泛应用，量产型生产厂家工艺逐渐趋于稳定，其降低生产制作成本已经步入到主要的研发方向。在纳米压印生产的中，生产耗材主要有：硬模板、压印胶以及软膜胶，其中硬模板价格昂贵，硬模板使用寿命的长短很大程度决定了成本的多少。多次使用后的硬模板上粘黏的脏污主要是制作软膜的硅胶，一般的酸性溶液和碱性溶液难以去除。常规的SPM溶液清洗和干法清洗均无法清洗掉纳米压印硬模板表面残留的软膜胶。

发明内容

为了解决上述技术问题，本发明提出了一种纳米压印硬模板的清洗方法。

为了达到上述目的，本发明的技术方案如下：

本发明公开一种纳米压印硬模板的清洗方法，具体包括以下步骤：

S1：将纳米压印硬模板浸泡于DHF溶液中；

S2：利用纯水去除纳米压印硬模板表面的DHF溶液；

S3：利用SPM溶液去除纳米压印硬模板表面的有机物，SPM溶液为硫酸与双氧水的混合溶液；

S4：利用纯水去除纳米压印硬模板表面的SPM溶液；

S5：利用SC1溶液去除纳米压印硬模板表面的金属离子，SC1溶液为氨水、双氧水与水的混合溶液；

S6：利用纯水去除纳米压印硬模板表面的SC1溶液；

S7：利用SRD甩干机对纳米压印硬模板进行干燥处理。

在上述技术方案的基础上，还可做如下改进：

作为优选的方案，S2、S4、S6分别具体包括以下内容：将纳米压印硬模板放置于纯水槽内后，对其进行以下操作：

(a)向纯水槽内纯水充入气体至纯水鼓泡，纯水槽内纯水从上溢流排出，并持续一定时间；

(b)纯水喷淋后，纯水从纯水槽的排水口排出，并持续一定时间；

(c)纯水喷淋后，纯水槽内纯水从上溢流排出，并持续一定时间；

(d)纯水槽内纯水从上溢流排出，持续一定时间；

其中，操作(a)、(b)、(c)、(d)按序进行或错序进行。

作为优选的方案，纯水槽内的纯水的温度为25℃～30℃之间。

作为优选的方案，S2、S4、S6中，操作(a)、(b)、(c)、(d)执行一次或多次。

作为优选的方案，S3具体包括以下步骤：

S3.1：将纳米压印硬模板放置于SPM溶液槽内；

S3.2：向SPM溶液槽内SPM溶液充入气体至SPM溶液鼓泡，并持续一定时间；