[发明专利]边缘环位置偏差标定调整方法在审

专利信息
申请号: 202211583720.6 申请日: 2022-12-09
公开(公告)号: CN115831820A 公开(公告)日: 2023-03-21
发明(设计)人: 杨洪军;朱红波;苏小鹏 申请(专利权)人: 广州粤芯半导体技术有限公司
主分类号: H01L21/67 分类号: H01L21/67;H01L21/68
代理公司: 深圳市嘉勤知识产权代理有限公司 44651 代理人: 刘婧
地址: 510700 广*** 国省代码: 广东;44
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摘要:
搜索关键词: 边缘 位置 偏差 标定 调整 方法
【权利要求书】:

1.一种边缘环位置偏差标定调整方法,其特征在于,包括:

设定边缘环在反应腔室的环形槽内的测试状态;

根据所述测试状态放置参考坐标至所述反应腔室内,且所述参考坐标与所述环形槽保持一定距离;

垂直于所述参考坐标生成与所述环形槽内轮廓线相切的第一标的激光线;

垂直于所述参考坐标生成与所述边缘环外轮廓线相切的第二标的激光线;

获取所述第一标的激光线与所述参考坐标交汇点数值和所述第二标的激光线与所述参考坐标交汇点数值的绝对差值;

基于所述绝对差值对所述边缘环的位置偏差进行标定调整。

2.如权利要求1所述的边缘环位置偏差标定调整方法,其特征在于,所述基于所述绝对差值对所述边缘环的位置偏差进行标定调整,具体包括:

判断所述绝对差值是否在预设的规格数值内,其中所述规格数值为17-20mm;

若所述绝对差值在所述规格数值内,则确定所述边缘环位置偏差正常;

若所述绝对差值不在所述规格数值内,则重新设定所述边缘环在反应腔室的环形槽内的测试状态。

3.如权利要求2所述的边缘环位置偏差标定调整方法,其特征在于,所述设定边缘环在反应腔室的环形槽内的测试状态,具体包括:

设定所述边缘环在所述反应腔室的环形槽内的测试位置;

基于所述测试位置设定所述边缘环在所述反应腔室的环形槽内的测试速度。

4.如权利要求3所述的边缘环位置偏差标定调整方法,其特征在于,所述测试速度为240r/min。

5.如权利要求3所述的边缘环位置偏差标定调整方法,其特征在于,所述设定所述边缘环在反应腔室的环形槽内的测试位置,具体包括:

选取PM后的边缘环置于所述环形槽内;

基于所述边缘环的外轮廓线标记与所述外轮廓线相切的横/纵标记坐标,作为调整所述测试位置的坐标参考。

6.一种边缘环位置偏差标定调整方法,其特征在于,包括:

设定边缘环在反应腔室的环形槽内的测试状态;

根据所述测试状态放置相互垂直第一量测坐标和第二量测坐标至所述反应腔室内;

垂直于所述第一量测坐标生成与所述环形槽内轮廓线相切的第一参考激光线和与所述边缘环外轮廓线相切的第一量测激光线;

垂直于所述第二量测坐标生成与所述环形槽内轮廓线相切的第二参考激光线和与所述边缘环外轮廓线相切的第二量测激光线;

获取所述第一量测激光线与所述第一参考激光线分别与所述第一量测坐标交汇点数值的第一量测差值;

获取所述第二量测激光线与所述第二参考激光线分别与所述第二量测坐标交汇点数值的第二量测差值;

基于所述第一量测差值和所述第二量测差值对所述边缘环的位置偏差进行标定调整。

7.如权利要求6所述的边缘环位置偏差标定调整方法,其特征在于,所述基于所述第一量测差值和所述第二量测差值对所述边缘环的位置偏差进行标定调整,具体包括:

判断所述第一量测差值和所述第二量测差值是否在预设的规格数值内,其中,所述规格数值为18±0.5mm;

若所述第一量测差值和所述第二量测差值在所述规格数值内,则确定所述边缘环位置偏差正常;

若所述第一量测差值和所述第二量测差值不在所述规格数值内,则重新设定所述边缘环在反应腔室的环形槽内的测试状态。

8.如权利要求7所述的边缘环位置偏差标定调整方法,其特征在于,所述设定边缘环在反应腔室的环形槽内的测试状态,具体包括:

设定所述边缘环在所述反应腔室的环形槽内的测试位置;

基于所述测试位置设定所述边缘环在所述反应腔室的环形槽内的测试速度。

9.如权利要求8所述的边缘环位置偏差标定调整方法,其特征在于,所述测试速度为230-260r/min。

10.如权利要求7所述的边缘环位置偏差标定调整方法,其特征在于,所述设定所述边缘环在所述反应腔室的环形槽内的测试位置,具体包括:

选取PM后的边缘环置于所述环形槽内;

基于所述边缘环的外轮廓线标记与所述外轮廓线相切的横/纵标记坐标,作为调整所述测试位置的坐标参考。

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