[发明专利]一种电浆碰撞强度监测方法、装置、设备及存储介质在审
申请号: | 202211654218.X | 申请日: | 2022-12-22 |
公开(公告)号: | CN115938933A | 公开(公告)日: | 2023-04-07 |
发明(设计)人: | 陶余超 | 申请(专利权)人: | 杭州富芯半导体有限公司 |
主分类号: | H01L21/311 | 分类号: | H01L21/311;H01L21/67;H01J37/304 |
代理公司: | 北京乐知新创知识产权代理事务所(普通合伙) 11734 | 代理人: | 江宇 |
地址: | 310051 浙江省杭州*** | 国省代码: | 浙江;33 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 一种 碰撞 强度 监测 方法 装置 设备 存储 介质 | ||
1.一种电浆碰撞强度监测方法,其特征在于,所述方法包括:
获取工艺腔的历史生产数据和当前试生产数据,所述当前试生产数据包括当前试生产离子信号强度;
根据所述历史生产数据和所述当前试生产离子信号强度,计算当前保养周期对应的离子信号强度范围;
将正式生产过程中监测所得的当前保养周期内工艺腔的当前离子信号强度,与所述当前保养周期对应的离子信号强度范围进行比较,得到所述工艺腔的电浆碰撞强度的监测结果。
2.根据权利要求1所述的方法,其特征在于,所述根据所述历史生产数据和所述当前试生产离子信号强度,计算当前保养周期对应的离子信号强度范围,包括:
根据所述历史生产数据中的第一信号波动范围,计算当前保养周期的第二信号波动范围;
根据所述当前试生产离子信号强度以及所述历史生产数据中的信号强度平均值和历史试生产离子信号强度,计算当前保养周期的信号强度目标值;
根据所述第二信号波动范围和所述信号强度目标值,计算当前保养周期对应的所述离子信号强度范围。
3.根据权利要求2所述的方法,其特征在于,根据以下公式计算所述第二信号波动范围:
Range=ax1+bx2+Cx3+…+mxn,
其中,Range为所述第二信号波动范围,a、b、c、m分别为当前保养周期的前n个保养周期对应的权重,x1、x2、x3、xn分别为当前保养周期的前n个保养周期对应的第一信号波动范围。
4.根据权利要求2所述的方法,其特征在于,所述根据所述当前试生产离子信号强度以及所述历史生产数据中的信号强度平均值和历史试生产离子信号强度,计算当前保养周期的信号强度目标值,包括:
计算所述信号强度平均值与所述历史试生产离子信号强度的差值;
根据所述当前试生产离子信号强度和所述差值,计算所述信号强度目标值。
5.根据权利要求4所述的方法,其特征在于,根据以下公式计算所述信号强度目标值:
Target=A+ayl+by2+cy3+…+myn,
其中,Target为所述信号强度目标值,A为所述当前试生产离子信号强度,a、b、c、m分别为当前保养周期的前n个保养周期对应的权重,y1、y2、y3、yn分别为当前保养周期的前n个保养周期对应的信号强度平均值与历史试生产离子信号强度的差值。
6.根据权利要求1所述的方法,其特征在于,所述当前试生产数据包括当前试生产晶圆的工艺参数,在所述将正式生产过程中监测所得的当前保养周期内工艺腔的当前离子信号强度,与所述当前保养周期对应的离子信号强度范围进行比较,得到所述工艺腔的电浆碰撞强度的监测结果之前,所述方法还包括:
根据所述工艺参数,对所述当前试生产晶圆进行失效分析,得到分析结果;
所述分析结果表征所述当前试生产晶圆存在蚀刻终止时,发送当前保养周期异常的第一报警信息。
7.根据权利要求1至6任一项所述的方法,其特征在于,所述将正式生产过程中监测所得的当前保养周期内工艺腔的当前离子信号强度,与所述当前保养周期对应的离子信号强度范围进行比较,得到所述工艺腔的电浆碰撞强度的监测结果,包括:
判断所述当前离子信号强度是否满足所述离子信号强度范围,得到判断结果;
所述判断结果为是,则所述电浆碰撞强度正常;
所述判断结果为否,则所述电浆碰撞强度异常,并发出所述电浆碰撞强度异常的第二报警信息。
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H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
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H01L21-02 .半导体器件或其部件的制造或处理
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