[发明专利]动态载物台及面形调整方法

说明书

本公开提供一种动态载物台及面形调整方法，动态载物台包括：支撑板，支撑板上设有导线通道和真空通道；面形控制模块，安装在支撑板表面，包括压电陶瓷阵列及气密墙，气密墙围绕压电陶瓷阵列；其中，压电陶瓷阵列由阵列排布的压电陶瓷单元组成，每一个压电陶瓷单元通过穿过导线通道的电极线与外部电路独立连接，外部电路向各个压电陶瓷单元两端独立施加电势差，使压电陶瓷单元独立产生纵向形变；压电陶瓷阵列用于支撑待调整工件，真空通道用于对气密墙、支撑板和待调整工件围成的空间抽真空，将待调整工件吸附在压电陶瓷阵列上。该动态载物台实现了对不同工件面形地灵活精确调整。

技术领域

本公开涉及加工技术领域，尤其涉及一种动态载物台及面形调整方法。

背景技术

在使用曝光装置、单点金刚石车床等高精度设备加工硅片或其他薄板时，现有硅片面形调整采用的载物台为在一块平整的基底上，加工出密布的微小柱销，载物台中间孔为抽真空气道，在工作时，负压使基板吸附在该载物台上，众多的微小柱销支撑着基板，由于柱销截面积较小，与基板的接触面小，对基板的面形影响也小。柱销的数量越多，相邻柱销间距离越小，就能更好的防止负压作用下硅片的变形。

然而，在基底本身的平整度难以控制的前提下，在基底上加工数量众多且满足所需平整度的柱销难度更大，既不好对所有柱销的整体平整度进行检测，也难以根据检测值对其平整度进行加工，进而影响硅片的加工精度。

发明内容

针对上述技术问题，本公开提供一种动态载物台及面形调整方法，用于至少部分解决现有技术中难以加工出平整度足够高的基底和难以在其上加工数量众多且满足所需平整度的柱销，从而难以提高传统载物台上所吸附的硅片的面形控制精度的技术问题。

基于此，本公开提供一种动态载物台，包括：支撑板，支撑板上设有导线通道和真空通道；面形控制模块，安装在支撑板表面，包括压电陶瓷阵列及气密墙，气密墙围绕压电陶瓷阵列；其中，压电陶瓷阵列由阵列排布的压电陶瓷单元组成，每一个压电陶瓷单元通过穿过导线通道的电极线与外部电路独立连接，外部电路向各个压电陶瓷单元独立两端施加电势差，使压电陶瓷单元独立产生形变；压电陶瓷阵列用于支撑待调整工件，真空通道用于对气密墙、支撑板和待调整工件围成的空间抽真空，将待调整工件吸附在压电陶瓷阵列上。

根据本公开的实施例，支撑板包括转接板和底座，转接板用于布设导线通道和真空通道，底座用于支撑转接板，并为真空通道和电极线预留与外部连接的空间，转接板与气密墙连接。

根据本公开的实施例，导线通道将每个压电陶瓷单元对应的电极线集中引导至底座预留的空间。

根据本公开的实施例，转接板由多层子板叠加而成，每层子板内开设有导线通孔，每层子板表面开设有导线凹槽，导线通孔与导线凹槽组合构成导线通道；其中，电极线穿过导线通孔后沿导线凹槽布设，延伸至底座预留的空间。

根据本公开的实施例，转接板的材料为陶瓷，电极线印刷在转接板内，形成一体结构。

根据本公开的实施例，每个压电陶瓷单元支撑待调整工件的一端还可以设置凸点结构，凸点结构用于支撑待调整工件。

根据本公开的实施例，凸点结构与对应的压电陶瓷单元一体成型或凸点结构粘接在对应的压电陶瓷单元表面。

根据本公开的实施例，压电陶瓷阵列为叠堆式压电陶瓷阵列，叠堆式为分立式或者整体式中的任一种。

根据本公开的实施例，压电陶瓷单元阵列排布的方式为三角阵列排布或矩形阵列排布或正多边形阵列排布或等间隙同心圆排布，压电陶瓷单元沿平行于支撑板表面方向的截面为圆形、矩形或正多边形。

根据本公开的实施例，不同压电陶瓷单元之间施加的电势差大小能够相同或不同，不同大小的电势差对应的压电陶瓷单元的形变量不同。