[发明专利]一种发光二极管及制备方法在审
申请号: | 202211719733.1 | 申请日: | 2022-12-30 |
公开(公告)号: | CN116190527A | 公开(公告)日: | 2023-05-30 |
发明(设计)人: | 褚志强;黄鑫;马贤杰;刘宇;马璐;詹宇;赵倩;吴和兵;曹玉飞 | 申请(专利权)人: | 聚灿光电科技(宿迁)有限公司 |
主分类号: | H01L33/44 | 分类号: | H01L33/44;H01L33/46;H01L33/00 |
代理公司: | 北京弘权知识产权代理有限公司 11363 | 代理人: | 逯长明;占园 |
地址: | 223865 江苏省*** | 国省代码: | 江苏;32 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 一种 发光二极管 制备 方法 | ||
1.一种发光二极管,其特征在于,包括:
衬底,所述衬底包括相对设置的第一表面和第二表面,所述第一表面为入光面,所述第二表面为出光面;
生长在所述第一表面的发光结构层,所述发光结构层为所述衬底提供入射光;
第一反射层,生长在所述发光结构层上;
金属调光膜,生长在所述第二表面,用于调节光线的出射方向,且与所述第一反射层组成双面反射结构。
2.根据权利要求1所述的发光二极管,其特征在于,
所述金属调光膜为金属复合层结构。
3.根据权利要求2所述的发光二极管,其特征在于,
所述金属复合层结构包括依次生成的附着层和结构层。
4.根据权利要求3所述的发光二极管,其特征在于,
所述附着层为Cr、Al、Ti、Ni中的一种,厚度为0.5-5nm。
5.根据权利要求3所述的发光二极管,其特征在于,
所述结构层为Al、Ag、Pt、Au、Cu中的一种或者多种金属叠层,厚度为2-100nm。
6.根据权利要求3所述的发光二极管,其特征在于,
所述金属复合层结构还包括保护层,所述保护层生长在所述结构层上,所述保护层为氧化物钝化层,厚度为2-1000nm;
所述保护层为SiO2或Si3N4。
7.根据权利要求3所述的发光二极管,其特征在于,
所述金属复合层结构还包括保护层,所述保护层生长在所述结构层上,所述保护层为金属层,厚度为2-50nm;
所述保护层为Au或Pt。
8.根据权利要求1所述的发光二极管,其特征在于,
所述金属调光膜为金属单层结构,所述金属单层结构的厚度为10-1000nm;
所述金属单层结构为Al、Ag、Pt、Au、Cu中的一种。
9.根据权利要求2或8所述的发光二极管,其特征在于,
所述发光结构层包括依次生长在第一表面的N型GaN层、多量子阱层和P型GaN层,
所述发光二极管还包括:第二反射层、电流阻挡层、导电层、P型电极和N型电极;
所述第二反射层设置在所述金属调光膜与所述衬底之间,所述第二反射层为单层氧化物,厚度为5-1000nm,所述第二反射层为SiO2或MgF2;
所述电流阻挡层和所述导电层设置在所述P型GaN层上,且所述导电层覆盖所述电流阻挡层;
所述P型电极和所述N型电极设置在所述第一反射层上。
10.一种发光二极管的制备方法,其特征在于,包括:
提供一层衬底,所述衬底包括相对设置的第一表面和第二表面,所述第一表面为入光面,所述第二表面为出光面;
在所述第一表面生长发光结构层,所述发光结构层为所述衬底提供入射光;
在所述发光结构层上生长第一反射层;
在所述第二表面生长金属调光膜,所述金属调光膜用于调节光线的出射方向,且与所述第一反射层组成双面反射结构。
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