[发明专利]一种高精度定位调平装置

说明书

本申请提供了一种高精度定位调平装置，包括沿着曝光光源方向设置的柔性吸盘模块、预调平模块、支撑板，所述柔性吸盘模块可产生正交的矫正力，带动目标掩模在矫正组件的轴线方向进行正交方向的偏移；所述预调平模块可带动预调平模块及柔性吸盘按照预期轨迹运动，控制目标掩模的空间位置；所述预调平模块的另一端与支撑板相连，本申请通过预调平模块的预对准（主动）和柔性吸盘模块的精对准（自适应，被动）双级调平系统保证晶圆与基片的调平与间隙控制稳定。

技术领域

本申请属于定位工装领域，具体涉及一种高精度定位调平装置。

背景技术

在光刻技术领域，传统的接近、接触式及SP投影光刻的精度受掩模与基片之间的间隙影响巨大，通常最对只有几十纳米，在如此小的间隙要求下保证掩模与基片间的水平是极其困难的技术，但是保持掩模与基片之间距离稳定、位置平行又是达到较优光刻效果的前提。因此，对二者之间的距离、位置进行调节为本领域中的重要问题。

现有技术US6873087 B1中针对纳米压印场景提出了一种通过柔性铰链保证掩模和基片之间保持均匀间隙，该发明调平机构包括一对挠曲构件，其具有用于围绕与第一和第二取向轴相交的枢轴点运动的挠曲接头，执行器延长或缩短以伸缩或收缩挠曲件，使用剥离和拉伸方法来保持掩模和基片之间的间隙。

现有技术CN108086408B公开了一种应用于光刻装置的被动式调平锁紧机构，该装置用于光刻机中实现对掩模版与基片之间的被动调平，该装置以承片台为基准，承片台推动掩模版向上移动，一定位移距离后掩模版上的光栅尺清零，然后掩模版在重力的作用下回到初始位置，通过光栅尺计数控制三点步进电机步数，通过齿轮啮合带动掩模版Z向上升，掩模版调平后，步进电机自锁，执行电动缸执行下压控制，完成对掩模版调平后的固定。

但是上述该两种方法均无法实现掩模的矫正和防掉功能，并且调节方式单一，精准度较低。

发明内容

为克服背景技术中存在的部分技术问题，本申请提供了一种高精度定位调平装置，可全自动实现掩模与基片的相对位置的调整固定，掩模与基片间的间隙控制，同时还可实现对掩模的矫正。

为实现上述技术目的，本申请采用的技术方案是：

一种高精度定位调平装置，包括，沿着曝光光源方向设置的，

柔性吸盘模块、预调平模块、支撑板，

所述柔性吸盘模块可对目标掩模进行吸附，所述柔性吸盘模块上还设置有若干个正交设置的矫正组件，可产生正交的矫正力，带动目标掩模在矫正组件的轴线方向进行正交方向的偏移；

所述预调平模块一端与柔性吸盘模块耦合，所述预调平模块上设置有若干个驱动感应装置，带动预调平模块及柔性吸盘按照预期轨迹运动，控制目标掩模的空间位置；

所述预调平模块的另一端与支撑板相连，支撑板起到支撑高精度定位调平装置的作用。

作为一种优选方案，所述预调平模块包括挠动板及固定支架，所述驱动感应装置包括第一驱动器及第一传感器，

所述第一传感器设置于第一驱动器上，用于接收数据，对第一驱动器进行反馈；

所述第一驱动器一端和挠动板相连，从而带动挠动板运动，另一端与固定支架相连；

所述挠动板与柔性吸盘模块耦合，可带动柔性吸盘模块运动。

优选的，所述驱动感应装置以高精度定位调平装置的结构中心为对称轴，在固定支架上等距周向布置。

优选的，所述第一驱动器包括音圈或压电电机的一种或两种。

优选的，所述第一传感器的端面与挠动板贴合。

优选的，所述第一传感器包括力矩传感器或光学检测器的一种或两种。