[发明专利]一种束流传输线用偏角辐照系统及其辐照方法在审

专利信息
申请号: 202211738290.0 申请日: 2022-12-31
公开(公告)号: CN115938895A 公开(公告)日: 2023-04-07
发明(设计)人: 郭如勇;王婉琳;李非易;桂正亚;张政;朱晓桦;周晓慧;沈轩羽;马超然;王孝宇 申请(专利权)人: 国电投核力创芯(无锡)科技有限公司
主分类号: H01J37/147 分类号: H01J37/147;H01J37/317;H01L21/02;H01L21/263;H01L21/423
代理公司: 无锡三谷高智知识产权代理事务所(普通合伙) 32569 代理人: 陈勤
地址: 214000 江苏省无锡市锡山区安*** 国省代码: 江苏;32
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要:
搜索关键词: 一种 流传 输线用 偏角 辐照 系统 及其 方法
【说明书】:

发明公开了一种束流传输线用偏角辐照系统及其辐照方法包括:所述辐照系统包括:束流传输线;送料部,位于所述束流传输线的底部;所述束流传输线包括:水平部;转向部,包括一90度偏转磁铁,使得水平部的束流经过90度偏转磁铁垂转向,并垂直于水平面;垂直部,包括与90度偏转磁铁连通的束流管道,置在所述束流管道周部的偏转机构,及设置在束流管道端部的束流出口;本发明通过设计90度偏转磁铁,使得水平部的束流经过90度偏转磁铁垂转向,并垂直于水平面,进而当束流传输线需要辐照晶圆时,晶圆与水平面平行即可,进而避免了晶圆在辐照时发生脱离现象,且由于托板与水平面平行放置,后续送料系统常规布置即可,无需改变整体方位,使得安装布置更加便捷。

技术领域

本发明涉辐照领域,具体是一种束流传输线用偏角辐照系统及其辐照方法。

背景技术

芯片领域的质子辐照,一般是指质子、氘束、氦离子辐照,统称为轻离子辐照,习惯上称为“质子辐照”。

芯片制造中的硼、磷等离子注入一般深度为1微米,而质子辐照的深度为几十微米以上,特别是高压功率芯片的质子辐照深度可达几百微米,质子辐照与离子注入是功率芯片环节制造中的不同工艺环节。

芯片制造的工艺流程包含芯片设计、晶圆制造、晶圆测试、封装、成品测试等环节。其中,质子与重离子辐照是晶圆制造中提高芯片性能不可替代的重要工艺手段;是实现功率芯片局域少子寿命控制的唯一可行手段。

现有的束流传输线系统在对晶圆辐照过程中,基本采用与水平面平行的束流传输线完成对晶圆的辐照工作,而在该过程中,为了使得晶圆可以受到束流的辐照,因此晶圆的托板需要与束流传输线相垂直,即需要与水平面垂直,进而达到晶圆可以受到束流的辐照效果,然而当托板与水平面相垂直时,具有如下缺点:

1.晶圆容易在托板上发生脱落,当采用夹具或者卡扣方式卡住晶圆时,辐照就不够全面;

2.当托板需要与水平面相垂直时,托板的送料系统也需要改变整体方位,因此安装不够便捷。

发明内容

发明目的:提供一种束流传输线用偏角辐照系统及其辐照方法,以解决现有技术存在的上述问题。

技术方案:一种束流传输线用偏角辐照系统及其辐照方法,包括:

束流传输线;

送料部,位于所述束流传输线的底部;

所述束流传输线包括:

水平部;

转向部,包括一90度偏转磁铁,使得水平部的束流经过90度偏转磁铁垂转向,并垂直于水平面;

垂直部,包括与90度偏转磁铁连通的束流管道,置在所述束流管道周部的偏转机构,及设置在束流管道端部的束流出口;

本发明通过设计90度偏转磁铁,使得水平部的束流经过90度偏转磁铁垂转向,并垂直于水平面,进而当束流传输线需要辐照晶圆时,晶圆与水平面平行即可,进而避免了晶圆在辐照时发生脱离现象,且由于托板与水平面平行放置,后续送料系统常规布置即可,无需改变整体方位,使得安装布置更加便捷。

所述偏转机构包括设置在所述束流管道周部的偏转槽,以及位于所述偏转槽内且设置在束流管道周部上的偏转磁体。

偏转磁体工作时一般还需要搭配控制系统和偏转检测器使用;

偏转检测器主要用于检测偏转幅度;

控制系统主要用于控制偏转磁体输入电流的强弱,进而达到偏转束流角度的效果。

通过偏转机构与送料部中的引料单元配合工作,使得晶圆可以在束流出口下方完成全面辐照。

在进一步实施例中,所述垂直部还包括固定架,所述偏转槽与所述固定架连接;

下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于国电投核力创芯(无锡)科技有限公司,未经国电投核力创芯(无锡)科技有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/202211738290.0/2.html,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top