[实用新型]一种单晶炉副室有效
申请号: | 202220145965.X | 申请日: | 2022-01-20 |
公开(公告)号: | CN216639704U | 公开(公告)日: | 2022-05-31 |
发明(设计)人: | 周云龙 | 申请(专利权)人: | 浙江晶泰半导体有限公司 |
主分类号: | C30B15/00 | 分类号: | C30B15/00 |
代理公司: | 杭州浙科专利事务所(普通合伙) 33213 | 代理人: | 陈包杰 |
地址: | 325600 浙江省温州*** | 国省代码: | 浙江;33 |
权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
摘要: | |||
搜索关键词: | 一种 单晶炉副室 | ||
本实用新型涉及一种清扫擦拭更加方便的单晶炉副室。采用的技术方案包括:单晶炉副室本体,所述单晶炉副室本体的侧壁至少设有一个清洗窗,所述清洗窗包括焊接于所述单晶炉副室本体侧壁上的底座以及通过铰链铰接于所述底座一端的上盖所述上盖内设有冷却液流道、一侧设有与所述冷却液流道连通的进水口和出水口。优点如下:1、通过在单晶炉副室本体侧壁设置一组清洗窗,通过清洗窗可对单晶炉副室本体进行分段清扫擦拭,可以不需要将单晶炉副室本体拆卸。
技术领域
本实用新型涉及一种单晶炉副室。
背景技术
单晶炉副室是单晶炉的重要组件之一,当单晶棒拉制结束后,单晶炉副室内壁会粘有挥发物,需要每炉都要清扫擦拭。由于单晶炉副室是一个数米高的筒状结构,对其内壁的清扫擦拭非常的麻烦,传统通常需要将其拆卸后,再利用很长的清扫擦拭装置从单晶炉副室的端口插入进行清扫擦拭,存在清扫擦拭麻烦、维护周期长等缺点,从而大大降低了生产效率和提高了生产成本。
实用新型内容
本实用新型要解决的技术问题是提供一种清扫擦拭更加方便的单晶炉副室。
为解决上述问题,本实用新型采用的技术方案包括:单晶炉副室本体,其特征在于:所述单晶炉副室本体的侧壁至少设有一个清洗窗,所述清洗窗包括焊接于所述单晶炉副室本体侧壁上的底座以及通过铰链铰接于所述底座一端的上盖所述上盖内设有冷却液流道、一侧设有与所述冷却液流道连通的进水口和出水口。
所述的单晶炉副室,其特征在于:所述冷却液流道由相对的设置在所述上盖上端、且交错设置的第一筋板、第二筋板围成,在所述上盖上端焊接有封盖于所述冷却液流道的封盖板。
所述的单晶炉副室,其特征在于:所述封盖板对应所述第一筋板、第二筋板位置处设有焊接孔。
所述的单晶炉副室,其特征在于:所述底座、上盖之间设有密封圈。
所述的单晶炉副室,其特征在于:所述底座的另一端通过安装座设有可转动的螺杆座,所述螺杆座上设有锁紧螺杆,所述上盖上设有与所述锁紧螺杆配合的“U”形锁紧口。
所述的单晶炉副室,其特征在于:所述单晶炉副室本体侧壁的上、中、下位置均设有所述清洗窗。
本实用新型的单晶炉副室优点如下:1、通过在单晶炉副室本体侧壁设置一组清洗窗,通过清洗窗可对单晶炉副室本体进行分段清扫擦拭,可以不需要将单晶炉副室本体拆卸,便可借助较便捷的清扫擦拭装置或直接用手就能完成清扫擦拭工作,从而大大提高了清扫擦拭的便捷性和效率;2、清洗窗上设有冷却系统,也不会影响单晶炉的晶体生长。
下面结合说明书附图对本实用新型做进一步说明。
附图说明
图1是本实用新型单晶炉副室的结构示意图;
图2是本实用新型单晶炉副室的剖视图;
图3是本实用新型清洗窗的爆炸图;
图4是本实用新型上盖的结构示意图;
图5是本实用新型封盖板的结构示意图;
图6是本实用新型底座的结构示意图。
具体实施方式
参照图1-6所示,本实用新型的单晶炉副室,包括单晶炉副室本体1,所述单晶炉副室本体1的侧壁的上、中、下位置均设置所述清洗窗2。所述清洗窗2包括焊接于所述单晶炉副室本体1侧壁上的底座3以及通过铰链17铰接于所述底座3一端的上盖4。所述单晶炉副室本体1的侧壁由内壁和外壁组成,所述内壁和外壁之间的空隙用于装冷却水。所述底座3底部也设有分别与所述单晶炉副室本体1的内壁和外壁焊接的底座内壁18、内壁外壁19。所述上盖4内设有冷却液流道5,且所述上盖4一侧设有与所述冷却液流道5连通的进水口6和出水口7。所述进水口6、出水口7可分别与管道连接,使所述冷却液流道5内形成循环冷却水路。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于浙江晶泰半导体有限公司,未经浙江晶泰半导体有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服】
本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/202220145965.X/2.html,转载请声明来源钻瓜专利网。
- 上一篇:一种金属家具面板稳定性转角连接件
- 下一篇:一种农机用耕地犁