[实用新型]一种新型真空镀膜工艺室

权利要求书

1.一种新型真空镀膜工艺室，其特征在于：该镀膜工艺室为单元式结构，镀膜工艺室包括由隔板(2)隔开的多个镀膜单元室(1)，每个镀膜单元室(1)结构一致；所述镀膜工艺室包括端板(3)、阀室门板(4)、底板(5)、隔板(2)、侧板(6)、沿口板(7)、U型加强筋(8)、连接腿板(9)、传动支撑条(10)、观察窗(11)、水冷法兰(13)、真空法兰(14)、溅射阴极盖板(15)、分子泵盖板(16)，镀膜工艺室由相互首尾相连的两个端板(3)、两个端板(3)组成框架，框架的内腔等间隔设置有多个隔板(2)，隔板(2)将框架内腔分割成多个结构一致的镀膜单元室(1)；

所述镀膜单元室(1)的底部设置有底板(5)，其中一个侧板(6)上安装有用于连接真空计的真空法兰(14)，另一个侧板(6)的顶端设置有沿口板(7)，该侧板(6)上还设置有水冷法兰(13)、用于在设备工作过程中观察产品及设备运行动态的观察窗(11)；所述镀膜单元室(1)上设置有溅射阴极盖板(15)和分子泵盖板(16)，溅射阴极盖板(15)和分子泵盖板(16)通过沿口板(7)实现密封。

2.根据权利要求1所述的一种新型真空镀膜工艺室，其特征在于：所述隔板(2)上开设有用于玻璃或产品进出的出入通道(20)。

3.根据权利要求1所述的一种新型真空镀膜工艺室，其特征在于：每个所述镀膜单元室(1)的阀室门板(4)上均设置有控制门阀。

4.根据权利要求1所述的一种新型真空镀膜工艺室，其特征在于：所述隔板(2)上间隔开设有多个作为分子泵单元的方孔(17)，用于将溅射阴极产生的多余的工艺气体抽出，提供溅射单元所需气压稳定的氛围。

5.根据权利要求1所述的一种新型真空镀膜工艺室，其特征在于：所述镀膜工艺室的端板(3)、分子泵盖板(16)、溅射阴极盖板(15)均采用双道密封结构(18)。

6.根据权利要求5所述的一种新型真空镀膜工艺室，其特征在于：每一个所述双道密封结构(18)的中间均开设有抽真空孔(19)。

7.根据权利要求1所述的一种新型真空镀膜工艺室，其特征在于：所述U型加强筋(8)设置在每个镀膜单元室(1)的隔板(2)的内侧，U型加强筋(8)的底部设置有连接腿板(9)。

8.根据权利要求1所述的一种新型真空镀膜工艺室，其特征在于：所述镀膜单元室(1)的底部间隔设置有多个传动支撑条(10)，侧板(6)上设置有用于安装传动电机的传动电机法兰(12)。