[实用新型]一种新型真空镀膜工艺室有效
申请号: | 202220146220.5 | 申请日: | 2022-01-19 |
公开(公告)号: | CN217026058U | 公开(公告)日: | 2022-07-22 |
发明(设计)人: | 张俊峰;赵子东;许春立;魏庆瑄 | 申请(专利权)人: | 上海子创镀膜技术有限公司 |
主分类号: | C23C14/34 | 分类号: | C23C14/34;C23C14/56;C23C14/50 |
代理公司: | 上海尊肃专利代理事务所(普通合伙) 31454 | 代理人: | 李珍珍 |
地址: | 201506 上海*** | 国省代码: | 上海;31 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 一种 新型 真空镀膜 工艺 | ||
本实用新型涉及真空镀膜技术领域,具体公开了一种新型真空镀膜工艺室,该镀膜工艺室为单元式结构,镀膜工艺室包括由隔板隔开的多个镀膜单元室,每个镀膜单元室结构一致,可根据工艺需求灵活调整;镀膜工艺室由相互首尾相连的两个端板、两个端板组成框架,框架的内腔等间隔设置有多个隔板,隔板将框架内腔分割成多个结构一致的镀膜单元室;所述镀膜单元室的底部设置有底板,一侧侧板上安装有用于连接真空计的真空法兰,另一个侧板的顶端设置有沿口板,镀膜单元室上设置有溅射阴极盖板和分子泵盖板。本方案在镀膜工艺室上增加了一个门阀室单元,大大缩短了设备维护及开机时间;双道密封结构的设计极大的提高了镀膜工艺室工艺压力的稳定性。
技术领域
本实用新型涉及真空镀膜技术领域,具体为一种新型真空镀膜工艺室。
背景技术
真空镀膜工艺室是真空镀膜设备的核心部件,各种真空镀膜工艺都必须在真空室中进行。在真空镀膜室中安装不同的功能部件,真空镀膜设备就能实现不同的镀膜工艺。
镀膜室的结构设计应便于加工制造和内部构件的组装,工作时应便于操作,且应具有良好的刚度稳定性。由于镀膜室为承受外压的容器,对于不带冷却水套的镀膜室,其内外压差相当于大气压,即受外部压力101325Pa。镀膜室的结构将影响整个构件的变形和承压情况。
镀膜工艺的结构设计有各种形状的,如球型、圆型、方型等;目前镀膜工艺室的设计分子泵位置和溅射阴极位置不能灵活互换,溅射阴极的排布受到一定限制,造成产品工艺不能灵活,镀膜维护次数频繁,获得的产品质量不稳定,产能效率低,使用成本高,不能满足目前高质量镀膜工艺生产需求。
实用新型内容
本实用新型的目的在于提供一种新型真空镀膜工艺室,以解决上述背景技术中提出的问题。
为实现上述目的,本实用新型提供如下技术方案:一种新型真空镀膜工艺室,该镀膜工艺室为单元式结构,镀膜工艺室包括由隔板隔开的多个镀膜单元室,每个镀膜单元室结构一致,可根据工艺需求灵活调整;所述镀膜工艺室包括端板、阀室门板、底板、隔板、侧板、沿口板、U型加强筋、连接腿板、传动支撑条、观察窗、水冷法兰、真空法兰、溅射阴极盖板、分子泵盖板,镀膜工艺室由相互首尾相连的两个端板、两个端板组成框架,框架的内腔等间隔设置有多个隔板,隔板将框架内腔分割成多个结构一致的镀膜单元室;所述镀膜单元室的底部设置有底板,其中一个侧板上安装有用于连接真空计的真空法兰,另一个侧板的顶端设置有沿口板,该侧板上还设置有水冷法兰、用于在设备工作过程中观察产品及设备运行动态的观察窗;所述镀膜单元室上设置有溅射阴极盖板和分子泵盖板,溅射阴极盖板和分子泵盖板通过沿口板实现密封。
优选的,所述隔板上开设有用于玻璃或产品进出的出入通道。
优选的,每个所述镀膜单元室的阀室门板上均设置有控制门阀。
优选的,所述隔板上间隔开设有多个作为分子泵单元的方孔,用于将溅射阴极产生的多余的工艺气体抽出,提供溅射单元所需气压稳定的氛围。
优选的,所述镀膜工艺室的端板、分子泵盖板、溅射阴极盖板均采用双道密封结构,减小双道密封区与真空镀膜工艺区的压力差。
优选的,每一个所述双道密封结构的中间均开设有抽真空孔。
优选的,所述U型加强筋设置在每个镀膜单元室的隔板的内侧,U型加强筋的底部设置有连接腿板。
优选的,所述镀膜单元室的底部间隔设置有多个传动支撑条,侧板上设置有用于安装传动电机的传动电机法兰。
与现有技术相比,本实用新型的有益效果是:
1、本实用新型提供的一种新型真空镀膜工艺室,该真空镀膜工艺室为单元式结构的镀膜工艺室,每个镀膜室工艺单元结构一样,可以根据工艺需求灵活调整,分子泵位置与溅射阴极位置能够灵活互换。
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