[实用新型]一种磁控溅射装置有效
| 申请号： | 202220196836.3 | 申请日： | 2022-01-24 |
| 公开（公告）号： | CN217265985U | 公开（公告）日： | 2022-08-23 |
| 发明（设计）人： | 臧世伟 | 申请（专利权）人： | 重庆金美新材料科技有限公司 |
| 主分类号： | C23C14/35 | 分类号： | C23C14/35;C23C14/56 |
| 代理公司： | 深圳市远航专利商标事务所(普通合伙) 44276 | 代理人： | 田志远;张朝阳 |
| 地址： | 401420 重庆市綦江*** | 国省代码： | 重庆;50 |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 一种 磁控溅射 装置 | ||
1.一种磁控溅射装置，包括一真空腔体，其特征在于，所述真空腔体内设有第一收放卷辊、若干冷却辊和第二收放卷辊，薄膜依次经过所述第一收放卷辊、若干所述冷却辊和所述第二收放卷辊，在所述冷却辊的外侧面设有靶材，该靶材为弧形靶材，且弧形靶材的内凹面朝向所述冷却辊。
2.根据权利要求1所述的一种磁控溅射装置，其特征在于，所述靶材包括第一靶材和第二靶材，所述第一靶材和所述第二靶材不重叠地设于所述冷却辊旁侧。
3.根据权利要求2所述的一种磁控溅射装置，其特征在于，所述第一靶材和所述第二靶材覆盖所述冷却辊的辊面的三分之一至三分之二。
4.根据权利要求1-3任一项所述的一种磁控溅射装置，其特征在于，若干所述冷却辊包括第一冷却辊和第二冷却辊，所述第一冷却辊和所述第二冷却辊的旁侧均设有两个弧形靶材。
5.根据权利要求4所述的一种磁控溅射装置，其特征在于，所述第一冷却辊和所述第二冷却辊之间设有转向辊。
6.根据权利要求1所述的一种磁控溅射装置，其特征在于，所述靶材通过一可调的支撑座设置在所述真空腔体内，使得所述靶材与所述冷却辊之间的距离可调。
7.根据权利要求6所述的一种磁控溅射装置，其特征在于，所述支撑座的材质为高熔点材料。
8.根据权利要求1所述的一种磁控溅射装置，其特征在于，所述第一收放卷辊和所述第二收放卷辊设置在所述真空腔体的壁面上，或者通过固定座设置在所述真空腔体的内腔中。
9.根据权利要求8所述的一种磁控溅射装置，其特征在于，所述固定座的材质为高熔点材料。
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