[实用新型]一种反应室及化学气相沉积设备

权利要求书

1.一种反应室，其特征在于，包括顶盖、底座及固定挡板，所述底座上设有凹槽，所述固定挡板上设有对应的凸块，所述凹槽与所述凸块配合，使所述固定挡板与所述底座固定连接，所述固定挡板用于遮挡所述底座的表面，所述凸块的长度和宽度均大于所述凸块插入所述凹槽的深度。

2.根据权利要求1所述的反应室，其特征在于，所述底座上设有承载装置，所述固定挡板上设有配合部，所述配合部的形状与所述承载装置的形状配合，使所述固定挡板遮挡所述底座上除所述承载装置覆盖范围外的区域。

3.根据权利要求2所述的反应室，其特征在于，所述底座上至少设有两块所述固定挡板，至少两块所述固定挡板的所述配合部与所述承载装置配合，将所述承载装置包围于至少两个所述配合部围成的区域内。

4.根据权利要求1所述的反应室，其特征在于，所述固定挡板上设有两个所述凸块。

5.根据权利要求4所述的反应室，其特征在于，两个所述凸块在所述固定挡板上对称设置。

6.根据权利要求4所述的反应室，其特征在于，两个所述凸块的长度方向与所述固定挡板的长度方向平行。

7.根据权利要求6所述的反应室，其特征在于，所述凸块的长度占所述固定挡板长度的百分之七十五。

8.根据权利要求4所述的反应室，其特征在于，两个所述凸块的长度方向与所述固定挡板的宽度方向平行。

9.根据权利要求8所述的反应室，其特征在于，所述凸块的长度占所述固定挡板宽度的百分之五十。

10.一种化学气相沉积设备，其特征在于，包括权利要求1-9中任意一项所述的反应室。