[实用新型]一种用于多晶硅生产的还原厂房供风系统

权利要求书

1.一种用于多晶硅生产的还原厂房供风系统，其特征在于，包括:还原厂房、第一供风装置、第二供风装置和第三供风装置；

所述还原厂房的一侧设置有电气设备室；

所述还原厂房的下部设置有进风口一和进风口二；所述进风口一与所述进风口二相对设置；

所述还原厂房的下部设置有出风口；所述出风口为多个；多个所述出风口沿所述还原厂房的外壁间隔设置；所述出风口较所述进风口一和所述进风口二的位置低；

所述还原厂房的顶部设置有轴流风机一；所述轴流风机一的输入端与所述还原厂房的内侧连通；所述轴流风机一的输出端连通所述还原厂房的外侧；

所述还原厂房的出风口与轴流风机二的输入端连通；所述轴流风机二的输出端连通所述还原厂房的外侧；

所述第一供风装置的输入端连通所述还原厂房的外部；所述第一供风装置的输出端通过第一风管与所述进风口一连通；所述第一风管上设置有气流调节阀一；

所述第二供风装置的输入端连通所述还原厂房的外部；所述第二供风装置的输出端通过第二风管与所述电气设备室连通；

所述第三供风装置的输入端通过第三风管与所述电气设备室连通；所述第三供风装置的输出端通过第四风管与所述进风口二连通；所述第四风管上设置有气流调节阀二；

所述电气设备室上设置有轴流风机三；所述轴流风机三的输入端与所述电气设备室的内侧连通；所述轴流风机三的输出端与所述电气设备室的外侧连通。

2.根据权利要求1所述的用于多晶硅生产的还原厂房供风系统，其特征在于，

所述第一供风装置包括：进风调节阀一、粗效过滤器一、中效过滤器前一、加热器一、冷却器一、风机机组一、消音系统一、中效过滤器后一、高效过滤器一和出风调节阀一；

所述进风调节阀一、所述粗效过滤器一和所述中效过滤器前一依次连通；

所述风机机组一、所述消音系统一、所述中效过滤器后一、所述高效过滤器一和所述出风调节阀一依次连通；

所述中效过滤器前一能够选择地通过所述加热器一或所述冷却器一与所述风机机组一连通。

3.根据权利要求2所述的用于多晶硅生产的还原厂房供风系统，其特征在于，

所述第二供风装置包括：进风调节阀二、粗效过滤器二、中效过滤器前二、加热器二、冷却器二、风机机组二、消音系统二、中效过滤器后二和出风调节阀二；

所述进风调节阀二、所述粗效过滤器二和所述中效过滤器前二依次连通；

所述风机机组二、所述消音系统二、所述中效过滤器后二和所述出风调节阀二依次连通；

所述中效过滤器前二能够选择地通过所述加热器二或所述冷却器二与所述风机机组二连通。

4.根据权利要求3所述的用于多晶硅生产的还原厂房供风系统，其特征在于，

所述第三供风装置包括：进风调节阀三、中效过滤器三、冷却器三、风机机组三、消音系统三、高效过滤器三和出风调节阀三；

所述进风调节阀三、所述中效过滤器三、所述冷却器三、所述风机机组三、所述消音系统三、所述高效过滤器三和所述出风调节阀三，依次连通。

5.根据权利要求1所述的用于多晶硅生产的还原厂房供风系统，其特征在于，

所述进风口一和所述进风口二位于同一平面上。

6.根据权利要求1所述的用于多晶硅生产的还原厂房供风系统，其特征在于，多个所述出风口位于同一平面上。

7.根据权利要求1所述的用于多晶硅生产的还原厂房供风系统，其特征在于，

所述进风口一与所述出风口位于所述还原厂房不同的侧壁上。

8.根据权利要求7所述的用于多晶硅生产的还原厂房供风系统，其特征在于，

所述进风口二与所述出风口位于所述还原厂房不同的侧壁上。

9.根据权利要求1所述的用于多晶硅生产的还原厂房供风系统，其特征在于，

所述进风口一为多个；多个所述进风口一沿所述还原厂房的外壁间隔设置；

所述进风口二为多个；多个所述进风口二沿所述还原厂房的外壁间隔设置。

10.根据权利要求4所述的用于多晶硅生产的还原厂房供风系统，其特征在于，还包括：控制装置；

所述控制装置与所述风机机组一、风机机组二、风机机组三、轴流风机一、轴流风机二、轴流风机三、气流调节阀一和气流调节阀二分别连接，以进行控制。