[实用新型]一种工件真空浸渗装置

权利要求书

1.一种工件真空浸渗装置，其特征在于：包括浸渗罐(1)、支撑杆(2)、罐盖(3)、旋转电机(4)、传动组件(5)、转轴(6)、工件框(7)、真空机接口(8)、进液端(9)、排液管(10)和支撑板(11)，所述浸渗罐(1)的顶端可开合的设置有罐盖(3)，所述浸渗罐(1)的底端对称设置有若干根支撑杆(2)，所述支撑杆(2)之间水平设置有支撑板(11)，支撑板(11)位于浸渗罐(1)的底端下方，所述旋转电机(4)固定在支撑板(11)上端，所述转轴(6)竖直安装在浸渗罐(1)的底端，转轴(6)的底端伸出到浸渗罐(1)的底端下方，所述旋转电机(4)的驱动端与转轴(6)的底端之间设置有传动组件(5)，所述工件框(7)固定在转轴(6)的顶端，所述浸渗罐(1)的上部设置有进液端(9)，所述浸渗罐(1)的底端设置有排液管(10)，所述进液端(9)、排液管(10)上均安装有手动阀门，所述罐盖(3)的顶端设置有真空机接口(8)。

2.根据权利要求1所述的工件真空浸渗装置，其特征在于：所述工件框(7)包括框底板(71)、框架(72)和框顶(73)，所述框底板(71)的上端外沿设置有一圈框架(72)，所述框架(72)的顶端设置有框顶(73)。

3.根据权利要求2所述的工件真空浸渗装置，其特征在于：所述框底板(71)上均匀设置有若干排竖直螺纹孔(74)。

4.根据权利要求2所述的工件真空浸渗装置，其特征在于：所述框架(72)及框顶(73)上均匀设置有若干排水平螺纹孔(75)。

5.根据权利要求2所述的工件真空浸渗装置，其特征在于：所述框底板(71)的底端对称设置有若干个轨道轮(77)，所述浸渗罐(1)的内部底端设置有一个圆形的轨道(76)，所述轨道轮(77)能够沿着轨道(76)进行运动。

6.根据权利要求1所述的工件真空浸渗装置，其特征在于：每根所述支撑杆(2)的底端均固定有杆座(21)。

7.根据权利要求1所述的工件真空浸渗装置，其特征在于：所述罐盖(3)的顶端还设置有观察窗(31)。

8.根据权利要求1所述的工件真空浸渗装置，其特征在于：所述罐盖(3)的顶端安装有压力表(32)。

9.根据权利要求1所述的工件真空浸渗装置，其特征在于：所述罐盖(3)的外侧设置把手(33)。