[实用新型]一种制备XRF用玻璃熔片的冷却装置及制样系统

权利要求书

1.一种制备XRF用玻璃熔片的冷却装置，其特征在于，包括：

支架(1)，具有第一安装位和第二安装位；

耐火件(2)，设于所述第一安装位上，所述耐火件(2)用于放置待冷却的坩埚；

第一风机(3)，设于所述第二安装位上，所述第一风机(3)具有第一进风端和第一出风端，由所述第一出风端吹出的冷风形成第一风冷路径，所述坩埚位于所述第一风冷路径上。

2.根据权利要求1所述的制备XRF用玻璃熔片的冷却装置，其特征在于，所述支架(1)具有一个底板(11)和设于所述底板(11)上的两个侧板(12)，两个所述侧板(12)平行布置，且均垂直布置于所述底板(11)；

所述第一安装位位于所述底板(11)的上表面；

所述第二安装位位于底板(11)的上表面边缘，所述第一风机(3)安装在所述底板(11)的上表面边缘；或者，两个所述侧板(12)的同一侧竖边构成第二安装位，所述侧板(12)的竖边上设有连接耳，所述第一风机(3)安装在所述连接耳上。

3.根据权利要求2所述的制备XRF用玻璃熔片的冷却装置，其特征在于，所述耐火件(2)的顶面为平面，所述第一风机(3)的第一出风端水平布置。

4.根据权利要求2所述的制备XRF用玻璃熔片的冷却装置，其特征在于，所述支架(1)的底部设有支腿(4)，所述底板(11)通过所述支腿(4)架空设置；

所述底板(11)上设有第一通风孔(111)，所述第一通风孔(111)为长条形孔；

所述底板(11)的下方空间设有第二风机(5)，所述第二风机(5)具有第二进风端和第二出风端，由所述第二出风端吹出的冷风通过所述第一通风孔(111)，并形成第二风冷路径，所述耐火件(2)的至少一个侧端面位于所述第二风冷路径上。

5.根据权利要求4所述的制备XRF用玻璃熔片的冷却装置，其特征在于，所述耐火件(2)贯穿设有第二通风孔(21)，当所述耐火件(2)置于所述底板(11)上时，所述第一通风孔(111)与所述第二通风孔(21)连通。

6.根据权利要求2至5任一项所述的制备XRF用玻璃熔片的冷却装置，其特征在于，所述耐火件(2)为耐火砖。

7.根据权利要求6所述的制备XRF用玻璃熔片的冷却装置，其特征在于，所述耐火砖的长、宽、高为20-23cm、8-11cm、4-6cm；

所述底板(11)的长、宽为24-28cm、13-15cm，所述侧板(12)的长、宽为24-28cm、12-14cm。

8.根据权利要求4或5所述的制备XRF用玻璃熔片的冷却装置，其特征在于，所述第一风机(3)和所述第二风机(5)均为鼓风机。

9.一种XRF用玻璃熔片制样系统，其特征在于，包括：

坩埚，用于容纳混匀的样品和熔剂；

熔样机，用于对所述坩埚内的样品和熔剂按照预定程序进行加热熔融；

权利要求1至8任一项所述的制备XRF用玻璃熔片的冷却装置，用于对从熔样机取出的待冷却坩埚进行冷却。

10.根据权利要求9所述的XRF用玻璃熔片制样系统，其特征在于，所述坩埚为铂金坩埚。