[实用新型]CVD配气接头组件安装用轨道托盘

说明书

本实用新型公开了CVD配气接头组件安装用轨道托盘，涉及小型的CVD(气相沉积)系统技术领域，解决现有不能更换和安装不同长度反应管道的技术问题，包括第一配气接头组件和第二配气接头组件，所述第一配气接头组件和所述第二配气接头组件之间可拆卸连接有反应管，所述反应管的下方两侧均设置有直线圆柱导轨，两个所述直线圆柱导轨上设置有沿所述直线圆柱导轨来回移动的托板盘，每个所述托板盘的上部均设置有至少一个用于支撑对应配气接头组件的支撑限位机构；本实用新型可根据不同的反应管的长度调节两个托板盘上相靠近的支撑限位机构之间的间距，方便根据不同反应管的长度调节和安装。

技术领域

本实用新型涉及小型的CVD(气相沉积)系统技术领域，更具体的是涉及CVD(气相沉积)接头安装技术领域。

背景技术

化学气相沉积(CVD)是指化学气体或蒸汽在基质表面反应合成涂层或纳米材料的方法，是半导体工业中应用最为广泛的用来沉积多种材料的技术，包括大范围的绝缘材料，大多数金属材料和金属合金材料。对于小型的CVD(气相沉积)系统，一般是通过一个进气口充入一种或几种气体，然后气体穿过石英管的时候将材料蒸汽或者裹挟的粉尘带到目标基体上去。

对于小型的CVD(气相沉积)系统，会有一些多次更换石英管的需求，现有的更换支撑件不能更换和安装不同长度反应管道；其次，现有的石英管与标准件按需搭配，存在结构冗大，无用结构太多，送样不平稳；再者，现有技术粉末和基材是要从石英管端口进入石英管正中间，进样和出样时，需要不停的将进气组件和出气组件从石英管上拆卸下来，每次更换对于非专业人士，如果每次拆卸石英管，石英管就会很容易损坏；此外，现有的反应管道不能被快速降温。

实用新型内容

本实用新型的目的在于：为了解决上述现有技术不能更换和安装不同长度反应管道的技术问题，本实用新型提供CVD配气接头组件安装用轨道托盘。

本实用新型为了实现上述目的具体采用以下技术方案：CVD配气接头组件安装用轨道托盘，包括第一配气接头组件和第二配气接头组件，所述第一配气接头组件和所述第二配气接头组件之间可拆卸连接有反应管，所述反应管的下方两侧均设置有直线圆柱导轨，两个所述直线圆柱导轨端部之间均设置有固定板，两个所述直线圆柱导轨上设置有沿所述直线圆柱导轨来回移动的托板盘，每个所述托板盘的上部均设置有至少一个用于支撑对应配气接头组件的支撑限位机构。

工作及使用过程：使用时，根据反应管的长度调节两个托板盘之间的距离，即两个托板盘上相靠近的支撑限位机构之间的间距，先将第一配气接头组件固定在其中一个托板盘上部的的支撑限位机构上，再将第二配气接头组件固定在另一个托板盘上部的支撑限位机构上，固定板用于连接和固定两个直线圆柱导轨，通过水平对称的两个直线圆柱导轨，沿两个直线圆柱导轨来回移动的托板盘，每个托板盘上部的至少一个用于支撑对应配气接头组件的支撑限位机构的设置，可根据不同的反应管的长度调节两个托板盘上相靠近的支撑限位机构之间的间距，再将第一配气接头组件和第二配气接头组件分别固定在对应的支撑限位机构，最后再将反应管连接在第一配气接头组件和第二配气接头组件之间，方便根据不同反应管的长度调节和安装，用途广泛，解决了上述现有技术不能更换和安装不同长度反应管道的技术问题。

本申请的技术方案中，反应管为石英管或陶瓷管。

进一步的，每个所述直线圆柱导轨的底部设置有凸型底座，两个所述底座的端部之间均设置有固定板。

进一步的，所述第一配气接头组件包括位于所述反应管一端可拆卸的第一配气管，与所述第一配气管连通的一个或两个压力传感器接口及与所述第一配气管连通的一个或两个抽气口；所述第二配气接头组件包括位于所述反应管另一端可拆卸的第二配气管及与所述第二配气管连通的进气法兰口和备用法兰口，所述第一配气管和所述第二配气管的内径均与所述反应管的内径相同，且所述第一配气管、所述反应管和所述第二配气管的水平中心轴位于同一直线上。