[实用新型]一种蒸镀源

说明书

本申请公开一种蒸镀源，涉及蒸镀设备技术领域，解决了蒸镀材料容易从坩埚底部泄漏的问题。本申请的蒸镀源包括坩埚、搅拌件、第一磁体、第二磁体以及驱动装置。坩埚的内部形成腔体，腔体具有底壁以及绕底壁一周设置的侧壁。搅拌件位于腔体内。第一磁体位于腔体内，与搅拌件靠近底壁的一端连接。第二磁体位于底壁远离腔体一侧，与第一磁体相互吸附。驱动装置的输出端与第二磁体连接，用于驱动第二磁体转动，以使第一磁体随第二磁体的转动而转动。该蒸镀源用于加热蒸发蒸镀材料。

技术领域

本申请涉及蒸镀设备技术领域，尤其涉及一种蒸镀源。

背景技术

真空镀膜是一种用处极其广泛的成膜方式。真空镀膜的原理是在真空环境中，对蒸镀材料进行加热，使蒸镀材料进行蒸发气化，气化后的蒸镀材料便可沉积在基板的表面上形成薄膜。

蒸镀材料一般放置在坩埚中进行加热气化。在加热蒸镀材料时，为了使坩埚内各个位置的蒸镀材料的温度分布均匀，坩埚内一般设置有搅拌机构对蒸镀材料进行搅拌。此外，为了驱动搅拌机构搅动，坩埚外还设有与搅拌机构连接的驱动机构来驱动搅拌机构搅动。

但是，现有的驱动机构一般设置在坩埚的底部。坩埚的底部设有通孔，驱动机构的输出端通过该通孔伸入到坩埚内与搅拌机构连接。这样，坩埚内的蒸镀材料容易通过坩埚底部的通孔泄漏出来，造成蒸镀材料的浪费。

实用新型内容

本申请提供一种蒸镀源，解决了蒸镀材料容易从坩埚底部泄漏的问题。

为达到上述目的，本申请采用如下技术方案：

本申请实施例提供的蒸镀源，坩埚的内部形成具有底壁以及绕底壁一周设置的侧壁的腔体，蒸镀材料可以放置在腔体内进行加热蒸发。搅拌件位于腔体内，可以在蒸镀材料升温的时候，对蒸镀材料进行搅拌，保证腔体内的蒸镀材料的温度均匀，进而保证蒸镀材料的蒸发速率稳定。

由于第一磁体与搅拌件靠近底壁的一端连接，第一磁体转动时会带动搅拌件进行转动。与驱动装置连接的第二磁体位于底壁远离腔体一侧，且第二磁体与第一磁体相互吸附。这样，驱动装置驱动第二磁体转动时，与第二磁体相互吸附的第一磁体也会因为吸附力而进行转动，最终带动搅拌件转动。由此，借助于第一磁体和第二磁体之间的吸附力，无需在坩埚的底壁开孔即可使搅拌件转动，进而对蒸镀材料进行搅拌，保证了蒸镀材料不会从坩埚的底壁泄漏出去。

在一些实施例中，搅拌件包括搅拌杆以及多个搅拌叶片。搅拌杆靠近底壁的一端与第一磁体连接，多个搅拌叶片安装于搅拌杆上。

在一些实施例中，底壁设有限位槽。蒸镀源还包括限位凸起，限位凸起安装于第一磁体靠近底壁一侧，且位于限位槽内。

在一些实施例中，第一磁体靠近底壁一侧与底壁之间具有间隙。

在一些实施例中，限位槽具有槽底以及绕槽底一周设置的槽壁。蒸镀源还包括垫片。垫片安装于限位槽内，与限位槽的槽底贴合。限位凸起远离第一磁体的一端与垫片抵靠。

在一些实施例中，蒸镀源还包括传动机构。传动机构与驱动装置以及第二磁体连接。

在一些实施例中，传动机构包括第一传动齿轮和第二传动齿轮。第一传动齿轮与驱动装置的输出端连接，第二传动齿轮与第一传动齿轮啮合，且与第二磁体连接。其中，第一传动齿轮的轮径小于第二传动齿轮的轮径。

在一些实施例中，蒸镀源还包括连接杆，连接杆的一端与第二磁体连接，另一端与第二传动齿轮连接。

在一些实施例中，蒸镀源还包括盖板，盖板位于侧板远离底壁一侧，搅拌杆远离底壁一端贯穿盖板。

在一些实施例中，盖板上设有开口，开口与腔体连通。

附图说明