[实用新型]一种光刻板

说明书

本实用新型公开了一种光刻板，包括非芯片区以及围绕所述非芯片区设置的芯片区，所述非芯片区分别设于所述光刻板的两侧，所述非芯片区上设有对位标记单元，两个所述对位标记单元沿所述光刻板的其中一条中心轴线对称设置，所述对位标记单元包括并排设置的第一标记位和第二标记位，两个所述第一标记位之间的间距与两个所述第二标记位之间的间距不同。本实用新型中的光刻板解决了现有技术中的光刻板通用性差的问题。

技术领域

本实用新型涉及半导体芯片制造技术领域，特别涉及一种光刻板。

背景技术

LED芯片是一种能发光的半导体电子元件，具有体积小、亮度高、能耗小等特点，被广泛应用于照明等领域，通常，在芯片整个前段制程需要经过多次黄光站点。而黄光站点又分为涂胶、曝光、显影、目检四大步骤。其中步骤之一的曝光，作用类似于生活中的老式交卷相机，工作原理为使用一定量的紫外线(波长一般为365nm)透过光刻板照射在涂胶后的晶圆上，将光刻板上的图形复制到晶圆上。

一般的，在曝光时，需要对晶圆的多层进行曝光，为了将后一层曝光需要将光刻板上的新图形套合到前一层的图形上，故需要特殊标记点进行对位，以保证两次套合的偏移量不超过设定的偏移量。然而，现有技术中，光刻板只能适用单一的曝光机进行曝光，通用性较差。

实用新型内容

有鉴于此，本实用新型的目的是提供一种光刻板，旨在解决现有技术中的光刻板通用性差的问题。

本实用新型提出的光刻板包括非芯片区以及围绕所述非芯片区设置的芯片区，所述非芯片区分别设于所述光刻板的两侧，所述非芯片区上设有对位标记单元，两个所述对位标记单元沿所述光刻板的其中一条中心轴线对称设置，所述对位标记单元包括并排设置的第一标记位和第二标记位，两个所述第一标记位之间的间距与两个所述第二标记位之间的间距不同。

上述光刻板通过设置非芯片区为对位标记单元提供安装空间，并将对位标记单元对称设置以保证在曝光时对晶圆进行精准定位，对位标记单元中的第一标记位和第二标记位分别用于不同类型的曝光机进行曝光定位，将第一标记位和第二标记位进行并排设置以保证两个第一标记位之间的间距与两个第二标记位之间的间距不同，从而使得不同类型的曝光机可以分别精准的识别到第一标记位和第二标记位，并对晶圆进行曝光，提升了光刻板的通用性，解决了现有技术中的光刻板通用性差的问题。

另外，根据本实用新型提出的光刻板，还可以具有如下的附加技术特征：

进一步地，所述第一标记位与所述第二标记位均包括多个间隔设置的标记区。

进一步地，所述标记区包括第一标记点以及围绕所述第一标记点设置的第二标记点。

进一步地，所述第一标记位中，相邻两个所述第一标记点的形状不同。

进一步地，所述光刻板还包括设于所述第一标记点内的第三标记点。

进一步地，所述第一标记位呈矩形，所述第一标记位的长度为10～15mm。

进一步地，两个所述对位标记单元之间的间距大于晶圆半径的二分之一且小于晶圆半径的三分之二。

进一步地，相邻两个所述第二标记点的形状不同。

进一步地，所述第二标记位中，每个所述第一标记点的形状均不相同。

进一步地，两个所述对位标记单元设于所述光刻板的另一条中心轴线上，以当所述光刻板盖设于晶圆上时，所述晶圆处于所述光刻板的中心区域。

附图说明

图1为本实用新型一实施例中提出的光刻板的结构示意图；

图2为本实用新型一实施例中提出的光刻板中的标记区的结构示意图；

图3为本实用新型一实施例中提出的光刻板中的第一标记位的结构示意图；