[实用新型]一种表层附着力改善型高透过低反射AR膜有效
| 申请号： | 202220540396.9 | 申请日： | 2022-03-14 |
| 公开（公告）号： | CN217385869U | 公开（公告）日： | 2022-09-06 |
| 发明（设计）人： | 高毓康;陈超;吕敬波;陈涛;王志坚;赵飞 | 申请（专利权）人： | 浙江日久新材料科技有限公司 |
| 主分类号： | G02B1/115 | 分类号： | G02B1/115;G02B1/14 |
| 代理公司： | 杭州中利知识产权代理事务所(普通合伙) 33301 | 代理人： | 肖洋 |
| 地址： | 314300 浙江省嘉兴市海盐*** | 国省代码： | 浙江;33 |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 一种 表层 附着力 改善 透过 反射 ar | ||
1.一种表层附着力改善型高透过低反射AR膜，其特征在于：包括基材层(1)、IM层(2)和改性复合层(3)，所述基材层(1)的顶面从上至下依次设有若干层IM层(2)，位于最上层的IM层(2)的顶面从上至下依次设有若干层改性复合层(3)，每一层所述改性复合层(3)均包括一上一下设置的二氧化硅层和氧化铌层。
2.如权利要求1所述的一种表层附着力改善型高透过低反射AR膜，其特征在于：所述基材层(1)为PET层、COP层、透明PI层、TAC层或PC层。
3.如权利要求2所述的一种表层附着力改善型高透过低反射AR膜，其特征在于：所述基材层(1)的厚度为5.7～188μm。
4.如权利要求1所述的一种表层附着力改善型高透过低反射AR膜，其特征在于：所述IM层(2)为低折射丙烯酸树脂层。
5.如权利要求4所述的一种表层附着力改善型高透过低反射AR膜，其特征在于：所述IM层(2)的层数为两层，位于下层的所述IM层(2)的厚度为0.8～1.9μm，位于上层的所述IM层(2)的厚度为50～150nm。
6.如权利要求1所述的一种表层附着力改善型高透过低反射AR膜，其特征在于：所述改性复合层(3)的层数为两层，位于下层的所述改性复合层(3)的氧化铌层的厚度为5～25nm，位于下层的所述改性复合层(3)的二氧化硅层的厚度为20～60nm，位于上层的所述改性复合层(3)的氧化铌层的厚度为80～180nm，位于上层的所述改性复合层(3)的二氧化硅层的厚度为50～130nm。
7.如权利要求1至6中任一项所述的一种表层附着力改善型高透过低反射AR膜，其特征在于：位于最上层的所述改性复合层(3)的二氧化硅层的顶面还设有保护层(4)。
8.如权利要求7所述的一种表层附着力改善型高透过低反射AR膜，其特征在于：所述保护层(4)为氧化铌层。
9.如权利要求8所述的一种表层附着力改善型高透过低反射AR膜，其特征在于：所述保护层(4)的厚度为0.5～5nm。
10.如权利要求9所述的一种表层附着力改善型高透过低反射AR膜，其特征在于：所述IM层(2)由涂布工艺涂布形成，所述改性复合层(3)和保护层(4)均通过磁控溅射工艺形成。
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