[实用新型]一种表层附着力改善型高透过低反射AR膜

说明书

本实用新型公开了一种表层附着力改善型高透过低反射AR膜，包括基材层、IM层和改性复合层，所述基材层的顶面从上至下依次设有若干层IM层，位于最上层的IM层的顶面从上至下依次设有若干层改性复合层，每一层所述改性复合层均包括一上一下设置的二氧化硅层和氧化铌层，位于最上层的所述改性复合层的二氧化硅层的顶面还设有保护层，所述保护层为氧化铌层，能够有效提升VR膜的视觉效果，改善VR膜的表层附着力，且制程线路较窄，生产效率较高，应用更广。

【技术领域】

本实用新型涉及AR膜的技术领域，特别是一种表层附着力改善型高透过低反射AR膜的技术领域。

【背景技术】

AR膜(Anti-Reflection Glass)，即抗反射增透膜，能够提高玻璃或屏幕的透光率，同时降低玻璃或屏幕的反射率，广泛应用在LCD电视、PDP电视、手提电脑、台式电脑、高档仪表面板、触摸屏和相框玻璃等电子产品之中，从而实现增透的效果，并且减少电子视屏或影像屏幕在环境光源下产生反光或眩光的问题，使对比更强烈，图像更清晰。但是，现有的AR膜通常制程线路较宽，且膜层附着力较差，亟待解决。

【实用新型内容】

本实用新型的目的就是解决现有技术中的问题，提出一种表层附着力改善型高透过低反射AR膜，能够有效提升VR膜的视觉效果，改善VR膜的表层附着力，且制程线路较窄，生产效率较高，应用更广。

为实现上述目的，本实用新型提出了一种表层附着力改善型高透过低反射AR膜，包括基材层、IM层和改性复合层，所述基材层的顶面从上至下依次设有若干层IM层，位于最上层的IM层的顶面从上至下依次设有若干层改性复合层，每一层所述改性复合层均包括一上一下设置的二氧化硅层和氧化铌层。

作为优选，所述基材层为PET层、COP层、透明PI层、TAC层或PC层。

作为优选，所述基材层的厚度为5.7～188μm。

作为优选，所述IM层为低折射丙烯酸树脂层。

作为优选，所述IM层的层数为两层，位于下层的所述IM层的厚度为0.8～1.9μm，位于上层的所述IM层的厚度为50～150nm。

作为优选，所述改性复合层的层数为两层，位于下层的所述改性复合层的氧化铌层的厚度为5～25nm，位于下层的所述改性复合层的二氧化硅层的厚度为20～60nm，位于上层的所述改性复合层的氧化铌层的厚度为80～180nm，位于上层的所述改性复合层的二氧化硅层的厚度为50～130nm。

作为优选，位于最上层的所述改性复合层的二氧化硅层的顶面还设有保护层。

作为优选，所述保护层为氧化铌层。

作为优选，所述保护层的厚度为0.5～5nm。

作为优选，所述IM层由涂布工艺涂布形成，所述改性复合层和保护层均通过磁控溅射工艺形成。

本实用新型的有益效果：

本实用新型通过将可增加透过性的氧化铌层以及可降低反射性的二氧化硅层交替设置形成改性复合层，并使若干层改性复合层依次堆叠设置，有效提升VR膜的视觉效果，改善VR膜的表层附着力，且制程线路较窄，生产效率较高，应用更广；通过在改性复合层的顶面增设氧化铌层作为保护层，极大地加长AR膜的水煮脱落时间，在水煮2h后膜面也没有发彩现象，且镀膜后并未影响整体光学曲线，使全光透过达到96％以上，分光透过400～700nm达到94％以上，反射400～700nm均值达到0.5％以下。

本实用新型的特征及优点将通过实施例结合附图进行详细说明。

【附图说明】

图1是实施例二的结构示意图；

图2是实施例三的结构示意图；