[实用新型]具有波浪纹路抗反射层的基板

说明书

一种具有波浪纹路抗反射层的基板，包含：一基板；及一负型光阻层，永久形成于该基板上，该负型光阻层的上表面具有一波浪纹路结构，且该波浪纹路结构的波峰与波谷之间的高度差介于0.5至3微米之间，该波浪纹路结构的波峰与相邻波峰间的水平向间距介于3至30微米之间。据此，得到具有超低反射率的负型光阻层的特殊技术功效。

技术领域

本实用新型是关于一种抗反射技术，特别是关于一种具有波浪纹路抗反射层的基板。

背景技术

负型光阻材料，因其具有经过曝光、显影、烘烤制程（以上制程简称微影制程,photolithography）后而产生分子间的交联（cross-linking）而固化的稳定特性，是作为永久性材料的其中一种。而由于负型光阻材料可通过微影制程而制作出高分辨率的永久性材料图案，例如，应用于液晶显示器制程当中的黑矩阵（Black Matrix）。

在微影制程中，为了要产生高分辨率的图案，为了控制好负型光阻材料的溶剂挥发量以及其与基板（例如玻璃或聚对苯二甲酸乙二酯，PET，polyethylene terephthalate）的黏着力（Adherence），就要控制好每一种负型光阻材料的软烤制程（Soft backing）的烘烤温度以及时间等等，以调配出目标配方（recipe）。同样地，在曝光的光源选择与曝光时间、曝光机的选择等，以及最后的硬烤制程（hard backing）等的综合配方，也是整个微影制程中所要掌控的。硬烤制程的配方可让即将成为永久层（permanent layer）的负型光阻层当中尚未挥发的溶剂挥发，并稳定化或平滑化光阻边缘等。

经过微影制程后，一般就可进行其他材料的沉积、蚀刻等等制程。然而，这个标准的负型光阻制程所制作出来的黑矩阵之类的永久层，其虽然为黑色的。但由于制程中的硬烤制程会让光阻的表面平滑化，而产生了较高反射率的状况。这种状况会让如彩色滤光片各个颜色的交接处（黑矩阵），产生些微的光反射，进而降低其色彩的表现效能。虽然此种状况目前尚可为大家所接受，但如何能降低如黑矩阵之类的永久层的光反射率，成为此技术领域的专家们可发展的方向。

实用新型内容

有鉴于此，本实用新型提出一种具有波浪纹路抗反射层的基板，运用二次曝光与热处理法，于第一次曝光制程后，再通过热处理制程产生形成于负型光阻层上的波浪纹路结构，并于第二次的曝光制程固化该波浪纹路结构，进而借由此波浪纹路结构来作为抗反射层，以解决已知技术作为永久层的负型光阻层的较高反射率，而达到具有超低反射率的负型光阻永久层的特殊技术功效。

为达上述目的，本实用新型提出一种具有波浪纹路抗反射层的基板，包含：一基板；及一负型光阻层，永久形成于该基板上，该负型光阻层的上表面具有一波浪纹路结构，且该波浪纹路结构的波峰与波谷之间的高度差介于0.5至3微米之间，该波浪纹路结构的波峰与相邻波峰间的水平向间距介于3至30微米之间。

以下在实施方式中详细叙述本实用新型的详细特征以及优点，其内容足以使任何熟悉相关技艺者了解本实用新型的技术内容并据以实施，且根据本说明书所揭露的内容、申请专利范围及图式，任何熟悉相关技艺者可轻易地理解本实用新型相关的目的及优点。

附图说明

图1为本实用新型具有波浪纹路抗反射层的基板及其制造方法的制造流程图；

图2A至图2I为本实用新型具有波浪纹路抗反射层的基板及其制造方法的制造流程的各阶段剖面示意图；

图3A至图3C为本实用新型的制造流程中，热处理制程的不同烘烤时间的实际产品显微扫描图；

图4为本实用新型具有波浪纹路抗反射层的基板的反射率测试结果图。

附图中的符号说明：

10：基板；

20：负型光阻层；

21、22：保留图案区；