[实用新型]一种硅片酸制绒绒面残留物清洗装置

权利要求书

1.一种硅片酸制绒绒面残留物清洗装置，其特征在于：所述装置包括清洗机台(1)，清洗机台(1)包括预清洗槽(2)和循环清洗槽(3)，清洗机台(1)上设有用于带动硅片进行清洗的托架(4)，预清洗槽(2)和循环清洗槽(3)内部设有用于带动托架(4)上硅片清洗的下料机构，下料机构包括用于对托架(4)上的硅片进行固定的固定扣(18)，清洗机台(1)上设有用于带动托架(4)在预清洗槽(2)和循环清洗槽(3)上方传送的传送机构，传动机构包括延伸块(9)，延伸块(9)与清洗机台(1)可拆卸连接，托架(4)内设有用于对硅片残留物进行收集的收集组件。

2.根据权利要求1所述的一种硅片酸制绒绒面残留物清洗装置，其特征在于:所述传送机构包括导轨(8)，导轨(8)设置在延伸块(9)上，导轨(8)的数量为两个，托架(4)靠近导轨(8)的两侧设有槽口，槽口包括横向槽和纵向槽，横向槽内部设有用于使托架(4)进行滑动的滑移伸缩杆(10)，纵向槽内部设有用于推动滑移伸缩杆(10)进行伸缩的驱动气缸(11)，导轨(8)内部靠近滑移伸缩杆(10)的位置设有用于推动滑移伸缩杆(10)在导轨(8)内部进行滑移的传送气缸(12)。

3.根据权利要求1所述的一种硅片酸制绒绒面残留物清洗装置，其特征在于:所述下料机构包括若干用于托架(4)进行支撑下料的支撑板(13)，支撑板(13)分别设置在预清洗槽(2)和循环清洗槽(3)内部，预清洗槽(2)和循环清洗槽(3)靠近支撑板(13)的位置设有下料槽，支撑板(13)滑移连接在下料槽内部，下料槽内部设有用于推动支撑板(13)滑移的下料气缸(14)，固定扣(18)设置在支撑板(13)顶部。

4.根据权利要求1所述的一种硅片酸制绒绒面残留物清洗装置，其特征在于:所述收集组件包括收集筛网(16)，托架(4)内部设有收集槽，收集槽的数量为两个，收集筛网(16)架设在收集槽内部，托架(4)内部靠近收集筛网(16)的位置设有用于将杂质滑落到收集筛网(16)的弧形板(17)，弧形板(17)与托架(4)一体连接。

5.根据权利要求2所述的一种硅片酸制绒绒面残留物清洗装置，其特征在于:所述导轨(8)上设有用于感应托架(4)滑移到指定位置的接近开关(15)，接近开关(15)和下料气缸(14)电连接。

6.根据权利要求1所述的一种硅片酸制绒绒面残留物清洗装置，其特征在于:所述预清洗槽(2)内部设有用于对硅片震动清洗的超声波清洗仪(5)，循环清洗槽(3)内部设有用于对清洗水流进行加热的恒温控发热管(6)，预清洗槽(2)和循环清洗槽(3)均设有对硅片进行喷淋的喷淋头(7)。