[实用新型]一种循环式半导体设备超声清洗机构

权利要求书

1.一种循环式半导体设备超声清洗机构，包括壳体(1)，其特征在于，所述壳体(1)的两侧内壁均开设有两个滑槽(22)，滑槽(22)内活动连接有清洗盒(18)，清洗盒(18)的底部外壁固定连接有多个拉簧(16)，且拉簧(16)与壳体(1)相固定，所述清洗盒(18)的一侧外壁固定连接有齿条(21)，所述壳体(1)的一侧外壁固定连接有电机，且电机输出轴的一端穿过壳体(1)并固定连接有缺齿轮(23)，且缺齿轮(23)与齿条(21)相啮合，所述壳体(1)的一侧内壁固定连接有固定块(14)，固定块(14)的一侧活动连接有U型管道(8)，U型管道(8)的底部固定连接有多个喷头(7)，所述U型管道(8)的一侧外壁活动连接有扭簧(15)，且扭簧(15)的两端分别与U型管道(8)和固定块(14)相固定，所述壳体(1)的一侧外壁固定连接有固定板(11)，固定板(11)的顶部固定连接有水泵(10)，水泵(10)的出水口的一端固定连接有连接软管(9)，且连接软管(9)与U型管道(8)相固定，所述壳体(1)的一侧开设有安装口，安装口内固定连接有抽水管(12)，且抽水管(12)与水泵(10)进水口的一端相固定，所述壳体(1)的一侧内壁固定连接有超声波发生器(19)。

2.根据权利要求1所述的一种循环式半导体设备超声清洗机构，其特征在于，所述缺齿轮(23)的一侧固定连接有拨杆(20)，且拨杆(20)与U型管道(8)相接触。

3.根据权利要求1所述的一种循环式半导体设备超声清洗机构，其特征在于，所述壳体(1)的底部内壁固定连接有多个导向杆(17)，且导向杆(17)与清洗盒(18)滑动连接。

4.根据权利要求3所述的一种循环式半导体设备超声清洗机构，其特征在于，所述壳体(1)的一侧开设有观察口，观察口内固定连接有观察窗(2)。

5.根据权利要求4所述的一种循环式半导体设备超声清洗机构，其特征在于，所述壳体(1)的底部外壁固定连接有多个支撑柱(4)，支撑柱(4)的底部固定连接有橡胶垫(5)。

6.根据权利要求5所述的一种循环式半导体设备超声清洗机构，其特征在于，多个所述支撑柱(4)的一侧均固定连接有固定筋(3)，且固定筋(3)与壳体(1)相固定。

7.根据权利要求6所述的一种循环式半导体设备超声清洗机构，其特征在于，所述壳体(1)的一侧开设有排水口，排水口内固定连接有出水管(6)。

8.根据权利要求7所述的一种循环式半导体设备超声清洗机构，其特征在于，所述壳体(1)的底部内壁固定连接有过滤盒(13)。