[实用新型]一种用于CMP阶段晶圆边缘清洁的晶圆支架有效

专利信息
申请号: 202221127748.4 申请日: 2022-05-12
公开(公告)号: CN217158156U 公开(公告)日: 2022-08-09
发明(设计)人: 金相一 申请(专利权)人: 成都高真科技有限公司
主分类号: H01L21/683 分类号: H01L21/683;B08B3/10;B08B13/00
代理公司: 成都九鼎天元知识产权代理有限公司 51214 代理人: 张杰
地址: 610000 四川*** 国省代码: 四川;51
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摘要:
搜索关键词: 一种 用于 cmp 阶段 边缘 清洁 支架
【权利要求书】:

1.一种用于CMP阶段晶圆边缘清洁的晶圆支架,其特征在于,包括:

晶圆支架本体(1),所述晶圆支架本体(1)上设置有用于夹持晶圆(3)的夹持部;

用于液体流出的液体孔(2),所述液体孔(2)开设在晶圆支架本体(1)上,液体由晶圆支架本体(1)内部经液体孔(2)流出至晶圆(3)边缘。

2.根据权利要求1所述的一种用于CMP阶段晶圆边缘清洁的晶圆支架,其特征在于,所述晶圆支架本体(1)呈圆柱体状,所述夹持部为开设在晶圆支架本体(1)周向方向上的V形槽(4),所述V形槽(4)用于夹持晶圆(3)边缘。

3.根据权利要求2所述的一种用于CMP阶段晶圆边缘清洁的晶圆支架,其特征在于,所述V形槽(4)包括开口端和尖端(5),所述尖端(5)用于与晶圆(3)接触。

4.根据权利要求3所述的一种用于CMP阶段晶圆边缘清洁的晶圆支架,其特征在于,所述液体孔(2)设置在V形槽(4)的尖端(5)处,且与所述尖端(5)保持在同一水平线上。

5.根据权利要求4所述的一种用于CMP阶段晶圆边缘清洁的晶圆支架,其特征在于,所述晶圆支架本体(1)内部在周向方向上开设置有液体通道(6),所述液体孔(2)向晶圆支架本体(1)径向方向延伸,并与液体通道(6)连通;液体由液体通道(6)进入晶圆支架本体(1)内,再由液体孔(2)流出。

6.根据权利要求5所述的一种用于CMP阶段晶圆边缘清洁的晶圆支架,其特征在于,还包括晶圆支架旋转部(7),所述晶圆支架旋转部(7)与晶圆支架本体(1)连接,用于驱动晶圆支架本体(1)旋转。

7.根据权利要求6所述的一种用于CMP阶段晶圆边缘清洁的晶圆支架,其特征在于,所述晶圆支架旋转部(7)内部开设有供液体管线(9)穿过的管线孔(8),所述液体管线(9)穿过管线孔(8)与液体通道(6)连接。

8.根据权利要求7所述的一种用于CMP阶段晶圆边缘清洁的晶圆支架,其特征在于,所述液体管线(9)与液体通道(6)通过螺纹连接。

9.根据权利要求8所述的一种用于CMP阶段晶圆边缘清洁的晶圆支架,其特征在于,所述晶圆支架旋转部(7)也呈圆柱体状,所述晶圆支架本体(1)、晶圆支架旋转部(7)、液体通道(6)和管线孔(8)均在同一轴线上。

10.根据权利要求9所述的一种用于CMP阶段晶圆边缘清洁的晶圆支架,其特征在于,所述液体管线(9)均与主管道(10)连通,由主管道(10)统一输入液体。

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