[实用新型]改善光刻胶涂布均匀性的装置

权利要求书

1.一种改善光刻胶涂布均匀性的装置，包括：底盘（1）和遮罩片（2），所述遮罩片（2）活动设置在底盘（1）上，且在所述遮罩片（2）和底盘（1）之间形成用于容置晶圆片的收容空间，其特征在于，还包括：

顶出机构，所述顶出机构包括启动杆（31）、连杆（32）以及顶出杆（33），所述连杆（32）包括沿自身轴线方向依次设置的第一部分、第二部分和第三部分，所述启动杆（31）、顶出杆（33）分别与所述第一部分、第三部分转动连接，所述第二部分与底盘（1）转动连接，当所述启动杆（31）沿第一方向运动时，所述顶出杆（33）能够沿第二方向运动，且所述遮罩片（2）位于所述顶出杆（33）的运动轨迹上，当所述顶出杆（33）沿第二方向运动时，所述顶出杆（33）能够驱使遮罩片（2）沿第二方向运动而与底盘（1）分离。

2.根据权利要求1所述的改善光刻胶涂布均匀性的装置，其特征在于，所述连杆（32）经一轴体与底盘（1）转动连接，所述连杆（32）能够以所述轴体为轴转动。

3.根据权利要求2所述的改善光刻胶涂布均匀性的装置，其特征在于，所述启动杆（31）和顶出杆（33）设置在连杆（32）的同一侧，所述第一方向和第二方向为相反的方向。

4.根据权利要求3所述的改善光刻胶涂布均匀性的装置，其特征在于，所述底盘（1）内设置有空腔结构，至少所述连杆（32）以及顶出杆（33）设置在所述空腔结构内。

5.根据权利要求4所述的改善光刻胶涂布均匀性的装置，其特征在于，所述空腔结构包括沿第一方向设置的第一空腔、沿第三方向设置的第三空腔和沿第二方向设置的第二空腔，所述第一空腔、第三空腔、第二空腔依次连通，所述连杆（32）以及顶出杆（33）分别对应设置的第三空腔、第二空腔内，且所述启动杆（31）的局部设置在所述第一空腔内，其余部分暴露设置在空腔结构外部。

6.根据权利要求1所述的改善光刻胶涂布均匀性的装置，其特征在于，所述连杆（32）上还设置有滑行孔（321），所述启动杆（31）和/或顶出杆（33）与所述滑行孔（321）滑动连接。

7.根据权利要求1所述的改善光刻胶涂布均匀性的装置，其特征在于，所述收容空间中设置有通孔、第一放置槽（11）和第二放置槽（12），所述底盘（1）上设置有通孔，所述第一放置槽（11）环绕所述通孔设置，且在所述第一放置槽（11）与所述通孔之间形成用于承载晶圆片的台阶结构，所述底盘（1）上还设置有第二放置槽（12），所述第二放置槽（12）环绕所述第一放置槽（11）设置，且在第一放置槽（11）与所述第二放置槽（12）之间形成用于承载遮罩片（2）的台阶结构。

8.根据权利要求7所述的改善光刻胶涂布均匀性的装置，其特征在于，所述底盘（1）的边缘处设置有倒角。

9.根据权利要求8所述的改善光刻胶涂布均匀性的装置，其特征在于，所述启动杆（31）的端头处设置有按压头（311），所述底盘（1）设有所述倒角的一面上还设置有能够容纳所述按压头（311）的凹槽（13）。

10.根据权利要求1所述的改善光刻胶涂布均匀性的装置，其特征在于，还包括垫圈（4），所述垫圈（4）夹合于所述遮罩片（2）与所述晶圆片之间。