[实用新型]一种蒸发坩埚及电子束蒸发卷绕镀膜设备有效
申请号: | 202221308444.8 | 申请日: | 2022-05-27 |
公开(公告)号: | CN217556272U | 公开(公告)日: | 2022-10-11 |
发明(设计)人: | 孔令镇;麦耀华;朱红兵;沈凯;吴绍航;顾垂风;阮汉飞 | 申请(专利权)人: | 广东腾胜科技创新有限公司 |
主分类号: | C23C14/30 | 分类号: | C23C14/30;C23C14/56 |
代理公司: | 东莞高瑞专利代理事务所(普通合伙) 44444 | 代理人: | 杨英华 |
地址: | 526000 广东省肇庆市*** | 国省代码: | 广东;44 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 一种 蒸发 坩埚 电子束 卷绕 镀膜 设备 | ||
本实用新型公开了一种蒸发坩埚及电子束蒸发卷绕镀膜设备,一种蒸发钳锅,包括底座和设于底座的锅体,底座设有驱动机构和水冷盖板,该驱动机构连接有转臂和转轴,驱动机构驱动转轴转动,转轴带动转臂转动,转臂与水冷盖板连接、带动水冷盖板绕转轴运动,使水冷盖板与底座分开或盖在底座上。一种电子束蒸发镀膜设备,包括上述的蒸发钳锅。本实用新型提供一种蒸发钳锅及电子束蒸发卷绕镀膜设备,蒸发钳锅在镀膜结束后盖上水冷盖板,可快速阻断钳锅温度对镀膜基材的影响,简化常规镀膜设备的边跑膜边降温的操作,提高生产效率。
技术领域
本实用新型涉及镀膜设备技术领域,尤其是涉及一种蒸发坩埚及电子束蒸发卷绕镀膜设备。
背景技术
电子蒸发镀膜机是一种普适镀膜机,用于镀制各种单层膜、多层膜。可镀各种硬质膜、金属膜。主要用于制备纳米器件、有机光电器件的金属电极,以及制备用于生长纳米材料的催化剂薄膜层。目前电子束蒸发卷绕镀膜设备基本上是没有盖板的,蒸发材料预熔时间长,影响生产效率。而且常规的电子束蒸发卷绕镀膜设备在使用中需要边跑膜边降温,等降温结束后才能停止跑膜。
实用新型内容
本实用新型的目的旨在提供一种蒸发坩埚及电子束蒸发卷绕镀膜设备,蒸发坩埚在镀膜结束后盖上水冷盖板,可快速阻断坩埚温度对镀膜基材的影响,可及时停机,简化常规镀膜设备的边跑膜边降温的操作,提高生产效率。
为解决上述技术问题,本实用新型提供的技术方案是:一种蒸发坩埚,包括底座和设于底座的锅体,底座设有驱动机构和水冷盖板,该驱动机构连接有转臂和转轴,驱动机构驱动转轴转动,转轴带动转臂转动,转臂与水冷盖板连接、带动水冷盖板绕转轴运动,使水冷盖板与底座分开或盖在底座上。
本实用新型采用上述技术方案,底座设在电子束蒸发卷绕镀膜设备的真空容器内部,水冷盖板可转动在底座上,在镀膜完成后盖在锅体上用于阻断锅体的温度对镀膜基材的影响。驱动机构驱动转轴旋转,带动转臂旋转,转臂由于与水冷盖板连接,带动水冷盖板绕转轴做旋转运动。在进行镀膜时,水冷盖板呈打开状态,镀膜结束后,水冷盖板盖在底座上,阻断坩埚的蒸发温度对镀膜基材的影响,可及时停机不需要边跑膜边降温操作,具有提高生产效率的优点。
上述的蒸发坩埚,锅体内部设有可输入冷却水的冷却腔室。锅体用于盛放蒸发材料,在电子束照射蒸发材料时,产生蒸发气流,蒸发气流上升贴附在镀膜基材的表面,完成对镀膜基材的镀制。冷却腔室用于输入冷却水,在镀膜完成后,可加快降下锅体的温度,阻断锅体的蒸发温度对镀膜基材的影响。其中冷却腔室中的冷却水可更换,在水蒸发完后可及时补充。
上述的蒸发坩埚,水冷盖板内部设有可输入冷却水的冷却水通道。水冷盖板内部设冷却水通道,该冷却水通道可增加散热效果,水冷盖板盖在底座上时,锅体的蒸发温度被水冷盖板吸收,快速阻断坩埚的温度对镀膜基材的影响。
上述的蒸发坩埚,驱动机构包括气缸、齿条和转动齿轮,气缸的输出轴与齿条连接,齿条与转动齿轮啮合连接,转动齿轮与转轴连接。气缸驱动齿条往复运动,齿条带动转动齿轮旋转,转动齿轮带动转轴旋转,转轴带动转臂绕转轴转动,转臂控制水冷盖板运动,实现水冷盖板的开合。在镀膜时,气缸控制水冷盖板保持打开状态,镀膜完成后,气缸控制水冷盖板及时盖合在底座上,快速阻断坩埚温度对镀膜基材的影响。
为解决上述问题,本实用新型提供的另一技术方案是:一种电子束蒸发卷绕镀膜设备,包括上述技术方案中任一项所述的蒸发坩埚。
上述的电子束蒸发卷绕镀膜设备,包括真空容器、设于真空容器内的放卷系统、镀膜辊及收卷系统,镀膜基材从放卷系统输出,绕过镀膜辊后复卷在收卷系统上,蒸发坩埚设于镀膜辊的下方。蒸发坩埚受热,将置于其上的蒸发材料蒸发,形成蒸发气流,蒸发气流上升镀制在镀膜基材的表面,完成镀膜。
上述的电子束蒸发卷绕镀膜设备,真空容器的侧壁设有电子枪,电子枪发出的电子束射向蒸发坩埚的锅体上。锅体上设置蒸发材料,电子枪工作,发出电子束射向蒸发材料上,蒸发材料受热产生蒸发气流,该蒸发气流上升镀制在镀膜基材表面,完成镀膜。
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