[实用新型]一种便于维护的真空高效加热装置有效
申请号: | 202221448106.4 | 申请日: | 2022-06-11 |
公开(公告)号: | CN217719514U | 公开(公告)日: | 2022-11-01 |
发明(设计)人: | 黄营超;周炳 | 申请(专利权)人: | 德兴市意发功率半导体有限公司 |
主分类号: | H01L21/67 | 分类号: | H01L21/67 |
代理公司: | 苏州启华专利代理事务所(普通合伙) 32357 | 代理人: | 徐伟华 |
地址: | 334200 江*** | 国省代码: | 江西;36 |
权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
摘要: | |||
搜索关键词: | 一种 便于 维护 真空 高效 加热 装置 | ||
1.一种便于维护的真空高效加热装置,其特征在于,包括:真空箱体、加热管、接线端子、第一密封圈、第二密封圈和托板,所述加热管竖向设置在真空箱体中,所述托板可升降地设置在加热管下方,所述接线端子包括第一定位套和定位柱,所述第一定位套设置在加热管顶部,所述真空箱体顶部设置有密封板,所述密封板上设置有与加热管一一对应的定位孔,所述定位柱同心设置在第一定位套顶部并延伸至定位孔中,所述第一密封圈设置在第一定位套顶面,所述第二密封圈设置在定位柱外圆上。
2.根据权利要求1所述的便于维护的真空高效加热装置,其特征在于,所述加热管采用红外辐射加热管。
3.根据权利要求1所述的便于维护的真空高效加热装置,其特征在于,所述托板沿真空箱体的长度方向水平延伸。
4.根据权利要求3所述的便于维护的真空高效加热装置,其特征在于,所述真空箱体内壁上间隔设置有竖向延伸的导轨,所述导轨上设置有与托板相连接的滑块。
5.根据权利要求1所述的便于维护的真空高效加热装置,其特征在于,所述真空箱体内壁设置有延伸至托板下方的耳板,所述耳板下方设置有向上延伸至托板底部的螺丝,所述耳板中设置有与螺丝对应的螺纹孔。
6.根据权利要求1所述的便于维护的真空高效加热装置,其特征在于,所述托板上设置有与加热管底部一一对应的第二定位套。
7.根据权利要求1所述的便于维护的真空高效加热装置,其特征在于,所述第一定位套与定位柱采用一体化陶瓷结构。
8.根据权利要求1所述的便于维护的真空高效加热装置,其特征在于,所述第一定位套顶面内凹设置有与第一密封圈对应的第一环槽,所述定位柱外圆上设置有与第二密封圈对应的第二环槽。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于德兴市意发功率半导体有限公司,未经德兴市意发功率半导体有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服】
本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/202221448106.4/1.html,转载请声明来源钻瓜专利网。
- 上一篇:一种用于种植业的果树采摘车
- 下一篇:播种机的分种机构
- 同类专利
- 专利分类
H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L21-00 专门适用于制造或处理半导体或固体器件或其部件的方法或设备
H01L21-02 .半导体器件或其部件的制造或处理
H01L21-64 .非专门适用于包含在H01L 31/00至H01L 51/00各组的单个器件所使用的除半导体器件之外的固体器件或其部件的制造或处理
H01L21-66 .在制造或处理过程中的测试或测量
H01L21-67 .专门适用于在制造或处理过程中处理半导体或电固体器件的装置;专门适合于在半导体或电固体器件或部件的制造或处理过程中处理晶片的装置
H01L21-70 .由在一共用基片内或其上形成的多个固态组件或集成电路组成的器件或其部件的制造或处理;集成电路器件或其特殊部件的制造