[实用新型]一种便于维护的真空高效加热装置

说明书

本实用新型公开了一种便于维护的真空高效加热装置，其包括：真空箱体、加热管、接线端子、第一密封圈、第二密封圈和托板，所述加热管竖向设置在真空箱体中，所述托板可升降地设置在加热管下方，所述接线端子包括第一定位套和定位柱，所述第一定位套设置在加热管顶部，所述真空箱体顶部设置有密封板，所述密封板上设置有与加热管一一对应的定位孔，所述定位柱同心设置在第一定位套顶部并延伸至定位孔中，所述第一密封圈设置在第一定位套顶面，所述第二密封圈设置在定位柱外圆上。本实用新型所述的便于维护的真空高效加热装置，通过第一密封圈和第二密封圈进行双重密封，并利用托板的上升进行加热管的定位，拆装便利。

技术领域

本实用新型涉及硅片加工技术领域，尤其涉及一种便于维护的真空高效加热装置。

背景技术

在对单晶硅片进行真空镀膜时，需要一个高温环境。现有技术中，可以采用一排加热管进行真空箱体内部的加热，并通过密封圈进行加热管与真空箱体连接处的密封，避免漏气问题。

由于温度较高，密封圈的使用寿命缩短，需要经常进行密封圈的更换，材料和人工成本高，而且加热管的拆装不便，耗费的工时较长，影响了对单晶硅片正常的生产。

实用新型内容

本实用新型的目的在于提供一种便于维护的真空高效加热装置，提升密封效果和拆装便利性，降低成本。

为达此目的，本实用新型采用以下技术方案：

一种便于维护的真空高效加热装置，包括：真空箱体、加热管、接线端子、第一密封圈、第二密封圈和托板，所述加热管竖向设置在真空箱体中，所述托板可升降地设置在加热管下方，所述接线端子包括第一定位套和定位柱，所述第一定位套设置在加热管顶部，所述真空箱体顶部设置有密封板，所述密封板上设置有与加热管一一对应的定位孔，所述定位柱同心设置在第一定位套顶部并延伸至定位孔中，所述第一密封圈设置在第一定位套顶面，所述第二密封圈设置在定位柱外圆上。

其中，所述加热管采用红外辐射加热管。

其中，所述托板沿真空箱体的长度方向水平延伸。

其中，所述真空箱体内壁上间隔设置有竖向延伸的导轨，所述导轨上设置有与托板相连接的滑块。

其中，所述真空箱体内壁设置有延伸至托板下方的耳板，所述耳板下方设置有向上延伸至托板底部的螺丝，所述耳板中设置有与螺丝对应的螺纹孔。

其中，所述托板上设置有与加热管底部一一对应的第二定位套。

其中，所述第一定位套与定位柱采用一体化陶瓷结构。

其中，所述第一定位套顶面内凹设置有与第一密封圈对应的第一环槽，所述定位柱外圆上设置有与第二密封圈对应的第二环槽。

本实用新型的有益效果：一种便于维护的真空高效加热装置，特别采用了第一定位套和定位柱组成的接线端子，通过第一密封圈和第二密封圈的配合，进行双重密封，提升密封效果，并利用托板的上升进行加热管的定位及第一密封圈的挤压，有利于通过挤压力的调整来确保密封效果，延长第一密封圈的使用寿命，而且拆装维护比较便利，可以快速恢复正常生产，提升生产效率。

附图说明

图1是本实用新型的结构示意图；

图2是图1的俯视图。

具体实施方式

下面结合图1至图2并通过具体实施例来进一步说明本实用新型的技术方案。

如图1和图2所示的便于维护的真空高效加热装置，包括：真空箱体1、加热管2、接线端子、第一密封圈12、第二密封圈11和托板5，所述加热管2竖向设置在真空箱体1中，在本实施例中，所述加热管2采用红外辐射加热管，通电后，利用红外辐射的方式进行加热。