[实用新型]一种原子层沉积设备用自动密封装置

权利要求书

1.一种原子层沉积设备用自动密封装置，用于原子层沉积设备的真空室和镀膜室的密封，其中所述镀膜室设置在所述真空室的内部，所述镀膜室和所述真空室上分别具有位置对应的开口，其特征在于：该自动密封装置包括真空室底板、镀膜室底板以及位移驱动机构，其中所述真空室底板与所述位移驱动机构连接，所述真空室底板可在所述位移驱动机构的驱动下位移并对所述真空室的开口进行密封，所述镀膜室底板设置在所述真空室底板上且其可随着所述位移驱动机构的驱动对所述镀膜室的开口进行密封；所述镀膜室底板与所述真空室底板之间设置有位置调整机构，所述位置调整机构用于调整所述镀膜室底板与所述镀膜室之间的相对位置。

2.根据权利要求1所述的一种原子层沉积设备用自动密封装置，其特征在于：所述位置调整机构包括轴承座、滑座以及弹性件，所述滑座设置在所述真空室底板上，所述滑座的外侧通过滑动轴承连接所述滑座，所述滑座的外侧连接所述镀膜室底板，所述弹性件设置在所述滑座与所述轴承座之间使两者可相对运动；所述镀膜室底板可通过滑座与所述轴承座之间的相对运动实现位置调整。

3.根据权利要求2所述的一种原子层沉积设备用自动密封装置，其特征在于：所述轴承座的内侧连接有滚动轴承，所述滚动轴承连接有基片架转盘，所述基片架转盘连接有旋转驱动装置，所述旋转驱动装置位于所述真空室底板的外侧；所述基片架转盘可进入所述镀膜室的内部并在所述旋转驱动装置的驱动下在所述镀膜室内旋转。

4.根据权利要求3所述的一种原子层沉积设备用自动密封装置，其特征在于：所述滚动轴承对应所述基片架转盘处设置有密封件。

5.根据权利要求2所述的一种原子层沉积设备用自动密封装置，其特征在于：所述滑座的外圈为球形，使所述镀膜室底板可在所述滑座的球面上实现万向旋转。

6.根据权利要求2所述的一种原子层沉积设备用自动密封装置，其特征在于：所述滑动轴承对应于镀膜室处设置有挡板。

7.根据权利要求1所述的一种原子层沉积设备用自动密封装置，其特征在于：所述真空室底板与所述位移驱动机构之间设置有弹性件。

8.根据权利要求1或7所述的一种原子层沉积设备用自动密封装置，其特征在于：所述真空室底板上设置有可受压变形的密封件。

9.根据权利要求1所述的一种原子层沉积设备用自动密封装置，其特征在于：所述位移驱动机构为推送机构，所述位置调整机构为水平调整机构。